主流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網過濾實現銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態(tài)雜質鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

隨著高科技產業(yè)的迅猛發(fā)展，稀有金屬銦的需求日益增長。銦靶材與ITO靶材作為關鍵材料，在電子、光電及半導體等領域發(fā)揮著重要作用。本文旨在探討銦靶材與ITO靶材的區(qū)別，以及它們在回收技術、環(huán)保與經濟效益方面的差異。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設備的理想材料。其晶體結構穩(wěn)定，電導率高，確保了設備的運行。

小金屬：粗銦，精銦，ito銦靶材，粗稼，金屬鎵99.99以及廢料。高價回收鎳片，銑刀， 數控刀片， 輕質數控刀，廢合金針，針尖，銦.銦絲.氧化銦.