氧化銦是一種寬禁帶半導體，具有良好的光學透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導電性。這種成分結(jié)構(gòu)使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學和電學性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設(shè)備和顯示技術(shù)。

溶劑萃取法（化學法） 以濕法冶金為基礎(chǔ)，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

物理分離法中的機械剝離技術(shù)，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進行分離。隨后，再結(jié)合化學處理對分離出的ITO涂層進行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。再生銦的應(yīng)用廣泛，包括重新制備ITO靶材，以及在半導體、合金等領(lǐng)域的使用。從經(jīng)濟角度看，回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采，同時，回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述，ITO銦的回收不僅對環(huán)境友好，還能帶來顯著的經(jīng)濟效益。隨著科技的不斷進步和電子廢棄物數(shù)量的不斷增加，且環(huán)保的回收方案將成為稀散金屬可持續(xù)利用的關(guān)鍵所在。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設(shè)備的理想材料。其晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，電導率高，確保了設(shè)備的運行。