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流回收工藝分類 當(dāng)前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開,主要分為物理法、化學(xué)法和聯(lián)合工藝三類: 熔煉過(guò)濾法(物理法) 通過(guò)高溫熔煉結(jié)合篩網(wǎng)過(guò)濾實(shí)現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括: 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化,利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)(30-40目)截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。 熔融銦通過(guò)重力滴落收集,殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設(shè)備簡(jiǎn)單(圖1)、周期短(單次處理≤60分鐘)的優(yōu)勢(shì),適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫(±5℃),否則雜質(zhì)金屬可能熔化導(dǎo)致純度下降至95%以下。
溶劑萃取法(化學(xué)法) 以濕法冶金為基礎(chǔ),通過(guò)P204萃取劑選擇性富集銦: 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后,在pH=1.5-2.0條件下進(jìn)行三級(jí)逆流萃取,銦萃取率可達(dá)98%。 該工藝對(duì)低品位原料(含銦0.02%)適用性強(qiáng),但存在試劑消耗大(硫酸用量2-3噸/噸銦)、廢水處理成本高的問(wèn)題。
物理分離法中的機(jī)械剝離技術(shù),是通過(guò)破碎、篩分和浮選等方法,將ITO涂層與玻璃基板進(jìn)行分離。隨后,再結(jié)合化學(xué)處理對(duì)分離出的ITO涂層進(jìn)行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收,但需注意,其純度可能相對(duì)較低。再生銦的應(yīng)用廣泛,包括重新制備ITO靶材,以及在半導(dǎo)體、合金等領(lǐng)域的使用。從經(jīng)濟(jì)角度看,回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采,同時(shí),回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述,ITO銦的回收不僅對(duì)環(huán)境友好,還能帶來(lái)顯著的經(jīng)濟(jì)效益。隨著科技的不斷進(jìn)步和電子廢棄物數(shù)量的不斷增加,且環(huán)保的回收方案將成為稀散金屬可持續(xù)利用的關(guān)鍵所在。