ITO廢料來(lái)源與回收技術(shù) ITO廢料來(lái)源于生產(chǎn)廢料、終端廢料及工業(yè)副產(chǎn)物，為回收提供了豐富資源。ITO廢料來(lái)源于多個(gè)方面。首先，在ITO靶材的生產(chǎn)過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生切削碎屑和鍍膜后的廢靶材，這些屬于生產(chǎn)廢料。其次，隨著電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代，廢棄的LCD面板、智能手機(jī)屏幕以及光伏薄膜等電子垃圾也逐漸增多，這些被稱為終端廢料。此外，金屬冶煉過(guò)程中也會(huì)產(chǎn)生含銦煙塵或廢渣，這屬于工業(yè)副產(chǎn)物。這些不同來(lái)源的ITO廢料，為銦的回收利用提供了豐富的資源。

多種類回收技術(shù)如濕法冶金、火法冶金和物理分離法，提供了靈活的回收方式以適應(yīng)不同的廢物類型和規(guī)模需求。濕法冶金回收中，酸浸法通過(guò)使用鹽酸或硫酸來(lái)溶解ITO廢料，使得銦以In3?的形式進(jìn)入溶液。隨后，可以利用溶劑萃取、置換反應(yīng)（例如，使用鋅粉進(jìn)行置換）或電解法來(lái)進(jìn)一步回收銦。生物浸出法利用特定的微生物，如硫氧化，來(lái)選擇性溶解銦。雖然這種方法環(huán)保，但目前其效率相對(duì)較低，仍處在研究階段?；鸱ㄒ苯鸹厥罩?，高溫熔煉將含銦廢料與還原劑（例如焦炭）一同進(jìn)行高溫熔煉。在熔煉過(guò)程中，銦會(huì)富集在煙塵或熔渣中，隨后需要進(jìn)一步的二次處理來(lái)進(jìn)行提純。這種方法適用于大規(guī)模的回收操作，但能耗相對(duì)較高。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達(dá)90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導(dǎo)電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽(yáng)能電池等光電設(shè)備的理想材料。其晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，電導(dǎo)率高，確保了設(shè)備的運(yùn)行。

銦回收面臨的主要挑戰(zhàn)包括銦在電子設(shè)備中的低濃度和與其他金屬的合金化。傳統(tǒng)的回收方法難以有效提取，需要采用濕法冶金或火法冶金等先進(jìn)技術(shù)。同時(shí)，回收過(guò)程中需確保電子廢物流的分類和處理，以減少污染物對(duì)回收過(guò)程的影響。 銦回收具有重要的環(huán)保和經(jīng)濟(jì)效益。通過(guò)回收廢舊靶材中的銦，可以減少對(duì)新資源的開(kāi)采，降低環(huán)境污染，實(shí)現(xiàn)資源的可持續(xù)利用。此外，回收銦還能穩(wěn)定市場(chǎng)供應(yīng)，降低生產(chǎn)成本，促進(jìn)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。