鴻運(yùn)鑫主要回收范圍：

冶煉廠(chǎng)：黃金，白銀，鉑金，鈀金，銠金，銀鋅電瓶，以及粗鉛,貴鉛,陽(yáng)極泥等廢料;

礦山廠(chǎng)：銅粉，鉛粉，活性炭，載金炭，炭泥，銀粉，銀泥，金泥，一切煉金，煉銀，煉鉑，鈀銠的廢渣廢料等。

電鍍廠(chǎng)：金鹽、銀鹽、海綿金粉、氧化銦粉、金銀廢水等廢料；

電子廠(chǎng)：半導(dǎo)體藍(lán)膜，半導(dǎo)體鍍金硅片、鍍銀瓷片、壓敏電阻、薄膜開(kāi)關(guān)，廢冷光片，背光源，廢銀漿、鈀漿、擦銀布、擦金布，銀漿罐、金漿罐、含鈀陶瓷片，含金陶瓷片，含銀的陶瓷片、銀焊條、銀焊絲、銀粉、導(dǎo)電銀膠，鍍金，鍍銀，鍍銠鍍鉑等廢料。

首飾廠(chǎng)：拋光打磨粉，地毯，洗手池等廢料；

印刷廠(chǎng)：印刷廢菲林、X光片、定影水；

化工石油廠(chǎng)：鈀，鉑，銠，釕催化劑等。

氧化銦是一種寬禁帶半導(dǎo)體，具有良好的光學(xué)透明性，而氧化錫的引入則增強(qiáng)了材料的導(dǎo)電性。這種成分結(jié)構(gòu)使得ITO材料在保證高透光率的同時(shí)也具有低電阻率，兼具光學(xué)和電學(xué)性能。ITO靶材的這一獨(dú)特特性使其成為透明導(dǎo)電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設(shè)備和顯示技術(shù)。

主流回收工藝分類(lèi)

當(dāng)前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開(kāi)，主要分為物理法、化學(xué)法和聯(lián)合工藝三類(lèi)：

熔煉過(guò)濾法（物理法）

通過(guò)高溫熔煉結(jié)合篩網(wǎng)過(guò)濾實(shí)現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括：

廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。

熔融銦通過(guò)重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。

該方法具有設(shè)備簡(jiǎn)單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢(shì)，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導(dǎo)致純度下降至95%以下。

溶劑萃取法（化學(xué)法）

以濕法冶金為基礎(chǔ)，通過(guò)P204萃取劑選擇性富集銦：

含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進(jìn)行三級(jí)逆流萃取，銦萃取率可達(dá)98%。

該工藝對(duì)低品位原料（含銦0.02%）適用性強(qiáng)，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問(wèn)題。