劑萃取法（化學法） 以濕法冶金為基礎，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

隨著高科技產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，稀有金屬銦的需求日益增長。銦靶材與ITO靶材作為關鍵材料，在電子、光電及半導體等領域發(fā)揮著重要作用。本文旨在探討銦靶材與ITO靶材的區(qū)別，以及它們在回收技術、環(huán)保與經(jīng)濟效益方面的差異。

銦靶材主要由金屬銦制成，具有質軟、延展性好和導電性強的特點。作為稀有金屬，銦在自然界的含量稀少，但其獨特的物理和化學性質使其成為眾多高科技產(chǎn)品的核心組件。銦靶材廣泛應用于航空航天、電子工業(yè)等領域，是制造高性能電子元器件的關鍵材料。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設備的理想材料。其晶體結構穩(wěn)定，電導率高，確保了設備的運行。