井式/立式真空爐主要用于半導體器件燒結、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結及各種零件在氫氮保護下進行的工藝 。

井式真空爐主要技術參數

真空室工位數：1-3位

真空度：1Pa，加擴散泵為5x10-3Pa

工作溫度：<1000℃

充氣的壓強：0.3Mpa（可控）

不銹鋼內膽：Φ150-Φ350x1300mm(用戶自定)

恒溫區(qū)：600-1200mm±1℃

控溫方式：三點三段采用原裝進口高精度控溫儀

控溫曲線：9段升降溫/999小時

工作方式：自動或手動自由轉換

單點精度：±1℃/24h

正壓、負壓均采用數字顯示表

可多工位同時工作