溫濕度要求比一般空調(diào)高一般空調(diào)要求在18°C~26 °C之間，相對(duì)濕度則在40%~65%之間；凈室空調(diào)必須控制在22°C~24 °C之間，相對(duì)濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導(dǎo)體制程對(duì)溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內(nèi)。

所需的外氣較多由于半導(dǎo)體工廠中，制程系統(tǒng)需使用大量的化學(xué)品和毒氣，這些化學(xué)品和毒氣所產(chǎn)生的揮發(fā)氣體和廢氣必須予以全數(shù)排除，故排氣量相當(dāng)大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時(shí)所補(bǔ)充的空氣量亦隨之增加。

空調(diào)系統(tǒng)24小時(shí)全天運(yùn)轉(zhuǎn)并監(jiān)控管理半導(dǎo)體工廠部分制程設(shè)備，對(duì)溫濕度變化極為敏感，如黃光區(qū)Stepper光學(xué)機(jī)臺(tái)，些微的溫、濕度變化均會(huì)使設(shè)備的準(zhǔn)度偏差，另外芯片等產(chǎn)品也必須置放在定溫定濕的環(huán)境下，故空調(diào)系統(tǒng)必須24小時(shí)監(jiān)控管理之。

多層工業(yè)建筑的廠房絕大多數(shù)見(jiàn)于輕工、電子、儀表、通信、醫(yī)藥等行業(yè)，此類廠房樓層一般不是很高，其照明設(shè)計(jì)與常見(jiàn)的科研實(shí)驗(yàn)樓等相似，多采用熒光燈照明方案。機(jī)械加工、冶金、紡織等行業(yè)的生產(chǎn)廠房一般為單層工業(yè)建筑，并且根據(jù)生產(chǎn)的需要，更多的是多跨度單層工業(yè)廠房，即緊挨著平行布置的多跨度廠房，各跨度視需要可相同或不同。