凈室，又稱無(wú)塵室、潔凈室或清凈室，是指一個(gè)具有低污染水平的環(huán)境，這里所指的污染來(lái)源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學(xué)揮發(fā)性氣體。更準(zhǔn)確地講，一個(gè)凈室具有一個(gè)受控的污染級(jí)別，污染級(jí)別可用每立方米的顆粒數(shù)，或者用顆粒大小來(lái)厘定的。低級(jí)別的凈室通常是沒(méi)有經(jīng)過(guò)的（如沒(méi)有受控的微生物），更在意的是凈室中的灰塵。

凈室的定義為：將空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個(gè)相當(dāng)潔凈的環(huán)境。亦即：這個(gè)環(huán)境中的微塵粒子相當(dāng)少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應(yīng)用在對(duì)環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導(dǎo)體生產(chǎn)、生化技術(shù)、生物技術(shù)、精密機(jī)械、制藥、和醫(yī)院內(nèi)的手術(shù)室等行業(yè)等，其中以半導(dǎo)體業(yè)其對(duì)室內(nèi)之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴(yán)格、故其必需控制在某一個(gè)需求范圍內(nèi)，才不會(huì)對(duì)制程產(chǎn)生影響。作為生產(chǎn)設(shè)施，凈室可以占據(jù)廠房很多位置。

所需的外氣較多由于半導(dǎo)體工廠中，制程系統(tǒng)需使用大量的化學(xué)品和毒氣，這些化學(xué)品和毒氣所產(chǎn)生的揮發(fā)氣體和廢氣必須予以全數(shù)排除，故排氣量相當(dāng)大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時(shí)所補(bǔ)充的空氣量亦隨之增加。

半導(dǎo)體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導(dǎo)體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長(zhǎng)凈室ULPAfilter的壽命，但不能無(wú)條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運(yùn)轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達(dá)到一定之要求標(biāo)準(zhǔn)外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當(dāng)?shù)目刂啤?/p>