凈室系統(tǒng)，制造匹配規(guī)格之潔凈空氣，連續(xù)且穩(wěn)定供給足夠之潔凈空氣于使用端，凈室內(nèi)的制造區(qū)（FAB）。一般而言，制造潔凈空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經(jīng)過凈室系統(tǒng)各種處理單元設(shè)備之處理后進而得到匹配規(guī)格之潔凈空氣。以下簡單介紹其處理流程：外氣經(jīng)由外氣空調(diào)箱（Make-up Air Unit或MAU）初步過濾微塵（particle）并控制其溫濕度后，經(jīng)由回風管道間（Mech. Chase），將凈室之循環(huán)風量與外氣空調(diào)箱之補充風量混合，經(jīng)由冷卻盤管（Dry Cooling Coil）將回風管道間之回風降溫至凈室要求之規(guī)格，透過循環(huán)風扇（Fan Filter Unit或FFU）帶動凈室的氣流循環(huán)帶走微塵及熱量，后經(jīng)過超高性能過濾網(wǎng)（Ultra-low penetration air或ULPA Filter）過濾后，供應至Fab區(qū)。

空調(diào)系統(tǒng)24小時全天運轉(zhuǎn)并監(jiān)控管理半導體工廠部分制程設(shè)備，對溫濕度變化極為敏感，如黃光區(qū)Stepper光學機臺，些微的溫、濕度變化均會使設(shè)備的準度偏差，另外芯片等產(chǎn)品也必須置放在定溫定濕的環(huán)境下，故空調(diào)系統(tǒng)必須24小時監(jiān)控管理之。

半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

本標準適用于：

一、設(shè)計裝配式或部分裝配式的鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)和混合結(jié)構(gòu)廠房；

二、編制廠房建筑構(gòu)配件標準設(shè)計圖集。

注：①設(shè)計鋼結(jié)構(gòu)廠房、受條件限制的改（擴）建廠房、現(xiàn)澆式鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)廠房、工藝對廠房有特殊要求的廠房或按本標準設(shè)計在技術(shù)經(jīng)濟上會產(chǎn)生顯著不合理的廠房，可不執(zhí)行本標準的某些規(guī)定；②采用新技術(shù)、新結(jié)構(gòu)和新材料的廠房，可不受本標準某些規(guī)定的限制。