溫濕度要求比一般空調(diào)高一般空調(diào)要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調(diào)必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內(nèi)。

空調(diào)系統(tǒng)24小時全天運轉(zhuǎn)并監(jiān)控管理半導體工廠部分制程設(shè)備，對溫濕度變化極為敏感，如黃光區(qū)Stepper光學機臺，些微的溫、濕度變化均會使設(shè)備的準度偏差，另外芯片等產(chǎn)品也必須置放在定溫定濕的環(huán)境下，故空調(diào)系統(tǒng)必須24小時監(jiān)控管理之。

半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

工業(yè)廠房，指直接用于生產(chǎn)或為生產(chǎn)配套的各種房屋，包括主要車間、輔助用房及附屬設(shè)施用房。凡工業(yè)、交通運輸、商業(yè)、建筑業(yè)以及科研、學校等單位中的廠房都應(yīng)包括在內(nèi)。工業(yè)廠房除了用于生產(chǎn)的車間，還包括其附屬建筑物。