凈室的定義為：將空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔凈的環(huán)境。亦即：這個環(huán)境中的微塵粒子相當少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應用在對環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導體生產(chǎn)、生化技術(shù)、生物技術(shù)、精密機械、制藥、和醫(yī)院內(nèi)的手術(shù)室等行業(yè)等，其中以半導體業(yè)其對室內(nèi)之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求范圍內(nèi)，才不會對制程產(chǎn)生影響。作為生產(chǎn)設施，凈室可以占據(jù)廠房很多位置。

溫濕度要求比一般空調(diào)高一般空調(diào)要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調(diào)必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內(nèi)。

半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

本標準適用于：

一、設計裝配式或部分裝配式的鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)和混合結(jié)構(gòu)廠房；

二、編制廠房建筑構(gòu)配件標準設計圖集。

注：①設計鋼結(jié)構(gòu)廠房、受條件限制的改（擴）建廠房、現(xiàn)澆式鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)廠房、工藝對廠房有特殊要求的廠房或按本標準設計在技術(shù)經(jīng)濟上會產(chǎn)生顯著不合理的廠房，可不執(zhí)行本標準的某些規(guī)定；②采用新技術(shù)、新結(jié)構(gòu)和新材料的廠房，可不受本標準某些規(guī)定的限制。