潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機(jī)械工業(yè)（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導(dǎo)體工業(yè)（如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)）等對環(huán)境的要求，促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。國內(nèi)曾統(tǒng)計(jì)過，在無潔凈級別的要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64位儲存器僅2%。目前在精密機(jī)械、半導(dǎo)體、宇航、原子能等工業(yè)中應(yīng)用潔凈室已相當(dāng)普遍。

非單向流潔凈室：以前常稱為亂流型潔凈室，室內(nèi)的氣流并不都按單一方向流動。非單向流潔凈室有幾個(gè)共同的特點(diǎn)：終端過濾器（或亞）盡量接近潔凈室，它可以就是送風(fēng)口或直接連送風(fēng)口，也可以接到房間的送風(fēng)靜壓箱上；回風(fēng)口均設(shè)在潔凈室的下部，目的是避免出現(xiàn)“揚(yáng)灰”現(xiàn)象。非單向流潔凈室中都有渦流存在，不適宜用于高潔凈度的潔凈室中，宜用于6~9級的潔凈室中。

工作區(qū)的氣流應(yīng)均勻，流速必須滿足工藝和衛(wèi)生的要求；潔凈氣流應(yīng)盡可能把工作部位圍罩起來，使污染物在擴(kuò)散之前便流向回風(fēng)口。

工作設(shè)備布置時(shí)要留有一定的間隔，為送、回風(fēng)口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件：氣流組織設(shè)計(jì)時(shí)要考慮高大設(shè)備對氣流組織的影響。

潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務(wù)的，潔凈室設(shè)計(jì)必須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求，這是理所當(dāng)然的。因此，在潔凈室設(shè)計(jì)時(shí)生產(chǎn)工藝對環(huán)境參數(shù)的要求應(yīng)該實(shí)事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應(yīng)該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運(yùn)行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求，控制凈化面積，縮小高凈化級別潔凈區(qū)的范圍，嚴(yán)格控制100級和更高級別單向流潔凈區(qū)的面積。