在制造環(huán)境中，人們所關注的微粒尺寸一般都比較大，它們不會像煙霧那樣散開，而會掉到組件的表面上，所以與在半導體潔凈室中的空氣控制方案完全不同。另外，人們關注的范圍也越來越窄，需要控制的污染物的尺寸的直徑在80至120μm之間，小的在40至60μm之間，例如金屬、類污染物。這些用戶的目標與常規(guī)潔凈室用戶的沒有什么兩樣：防止產(chǎn)品出現(xiàn)用肉眼看得到的缺陷和功能性缺陷。

非單向流潔凈室：以前常稱為亂流型潔凈室，室內(nèi)的氣流并不都按單一方向流動。非單向流潔凈室有幾個共同的特點：終端過濾器（或亞）盡量接近潔凈室，它可以就是送風口或直接連送風口，也可以接到房間的送風靜壓箱上；回風口均設在潔凈室的下部，目的是避免出現(xiàn)“揚灰”現(xiàn)象。非單向流潔凈室中都有渦流存在，不適宜用于高潔凈度的潔凈室中，宜用于6~9級的潔凈室中。

潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務的，潔凈室設計必須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求，這是理所當然的。因此，在潔凈室設計時生產(chǎn)工藝對環(huán)境參數(shù)的要求應該實事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求，控制凈化面積，縮小高凈化級別潔凈區(qū)的范圍，嚴格控制100級和更高級別單向流潔凈區(qū)的面積。

在生產(chǎn)工藝平面區(qū)劃時盡可能把相同級別的潔凈房間布置在一起，把潔凈度要求高的工序設置在上風側，把產(chǎn)生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆廢氣的工藝設備、容器盡可能放在潔凈區(qū)外，若必須放在潔凈區(qū)內(nèi)時應盡量采取密閉措施以減少粉塵和廢氣的排放量。