詳細(xì)地質(zhì)工程勘察階段：低層建筑物（高度少于24米），勘察布孔孔間距不得超過30米，高層建筑物（高度大于24米）勘察布孔孔間距不得超過25米。

初步地質(zhì)工程勘察階段：低層建筑物（高度少于24米），勘察布孔孔間距50～80米，高層建筑物（高度大于24米）勘察布孔孔間距30～50米。

地質(zhì)勘察取樣化驗(yàn)要求：每個主土層取6個以上土樣，每個場地取2個水樣，每個場地巖樣6個以上，夾層也要取樣，高層建筑物需取2個填土做易溶鹽試驗(yàn)，選取2-4個巖樣要做天然飽和試驗(yàn)，場地要做地震剪切波試驗(yàn)或地震性評價。如含有地下室淤泥要加做固結(jié)系數(shù)試驗(yàn)，砂層加做滲透試驗(yàn)，圓礫要做重力觸探，基坑深度超5米，要做抽水試驗(yàn)。

內(nèi)在因素常對邊坡穩(wěn)定性起著主要控制作用，具體包括四個方面①組成邊坡巖土體的性質(zhì)(即：地層巖性)②地應(yīng)力③巖體結(jié)構(gòu)④地質(zhì)構(gòu)造

外部因素具體包括六個方面①工程荷載②人工挖掘③風(fēng)化作用④地震⑤爆破⑥地表水和地下水的作用。

水平地質(zhì)構(gòu)造和單斜地質(zhì)構(gòu)造

1、單斜構(gòu)造：指原來水平構(gòu)造的巖層，在受地殼運(yùn)動后巖層向同一個方向傾斜。傾斜巖層的產(chǎn)狀有三個產(chǎn)狀要素①巖層走向②巖層傾向③巖層傾角。

2、水平構(gòu)造：指未經(jīng)構(gòu)造變動的沉積巖層，先沉積的在下，后沉積的在上。