蝕刻

通過制版曝光，顯影后，將要時(shí)刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)使金屬接觸化學(xué)溶液，使用兩個(gè)陽性圖形通過從兩面的化學(xué)淹磨達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。工藝上有兩種方式實(shí)現(xiàn)即：曝光法、網(wǎng)印法。

機(jī)械表面處理：噴砂、拋丸、磨光、滾光、拋光、刷光、噴涂、刷漆、抹油等。

化學(xué)表面處理：發(fā)藍(lán)發(fā)黑、磷化、酸洗、化學(xué)鍍各種金屬與合金、TD處理、QPQ處理、化學(xué)氧化等。

電化學(xué)表面處理：陽極氧化、電化學(xué)拋光、電鍍等。

現(xiàn)代表面處理：化學(xué)氣相沉積CVD、物相沉積PVD、離子注入、離子鍍、激光表面處理等。

鋁合金表面處理：表面研磨拋光處理；表面噴砂拋丸處理；表面拉絲處理；陽極氧化處理（分為本色氧化和染色氧化）暢鋁制品一般都是要經(jīng)過這一道處理的；電鍍電泳處理。

鋼材表面處理：鋼材表面處理有化學(xué)處理和物理處理兩種，其中前者以酸洗為主，通過在鋼材表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行腐蝕處理后，再利用304#不銹鋼絲（耐酸堿溶液）制成的鋼絲刷輥清掃干凈便可達(dá)到效果；物理處理以機(jī)械加工處理的方式，如拋丸、噴砂、高壓水等方式，完成處理達(dá)到效果，SCS技術(shù)屬于后者。

電弧技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)：

高沉積速率(~1-3 μm/h)

高離化率，形成結(jié)合力好，致密的涂層

靶材冷卻，涂層工件受熱較少，這樣可以在低于100°C以下沉積

可以蒸發(fā)多種成分的金屬，剩余固態(tài)靶材成分不變

陰極可以放置在任何位置（水平、垂直、上部和下部），設(shè)備設(shè)計(jì)靈活