PVD真空鍍

PVD能夠?qū)崿F(xiàn)金屬表面鍍高硬度、高耐磨的金屬陶瓷裝飾鍍層，PVD真空鍍工藝手段是利用物流過(guò)程中來(lái)沉積薄膜的技術(shù)。

電鍍

通過(guò)電鍍的產(chǎn)品能夠使鍍層光澤度、高品質(zhì)金屬外觀，電鍍工藝手段是通過(guò)電解作用讓金屬表面附著金屬膜從而起到腐蝕的作用，能夠提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、美觀性等。

電弧蒸發(fā)

此工藝是將被蒸發(fā)的固體金屬（靶材）置于真空腔室內(nèi)，產(chǎn)生輝光放電后，在靶材表面運(yùn)行，靶材在很小的幾個(gè)微米大小內(nèi)蒸發(fā)，電弧的運(yùn)動(dòng)是由磁場(chǎng)所控制的，蒸發(fā)出的金屬離子形成的等離子體將沉積于工件表面，這些工件是在真空腔內(nèi)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，電弧制備的涂層通常被用于工具和零部件的表面涂層，電弧工藝中實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)材料的高度電離，沉積涂層具有優(yōu)異的附著力。

電弧技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)：

高沉積速率(~1-3 μm/h)

高離化率，形成結(jié)合力好，致密的涂層

靶材冷卻，涂層工件受熱較少，這樣可以在低于100°C以下沉積

可以蒸發(fā)多種成分的金屬，剩余固態(tài)靶材成分不變

陰極可以放置在任何位置（水平、垂直、上部和下部），設(shè)備設(shè)計(jì)靈活

金屬表面前處理在各種熱處理、機(jī)械加工、運(yùn)輸及保管過(guò)程中，不可避免地會(huì)被氧化，產(chǎn)生一層厚薄不均的氧化層。同時(shí)，也容易受到各種油類(lèi)污染和吸附一些其他的雜質(zhì)。

油污及某些吸附物，較薄的氧化層可先后用溶劑清洗、化學(xué)處理和機(jī)械處理，或直接用化學(xué)處理。對(duì)于嚴(yán)重氧化的金屬表面，氧化層較厚，就不能直接用溶劑清洗和化學(xué)處理，而先進(jìn)行機(jī)械處理。

通常經(jīng)過(guò)處理后的金屬表面具有高度活性，更容易再度受到灰塵、濕氣等的污染。為此，處理后的金屬表面應(yīng)盡可能快地進(jìn)行膠接。