國內(nèi)外關于ITO廢靶材的資源化利用和無害化處置技術的相關研究較多，主要可分為濕法、火法以及火濕法聯(lián)合三大類。濕法類主要的提取方式為鹽酸浸出，浸出液經(jīng)氧化法或使用鋁粉、鋅粉等分離銦錫后再置換得到粗銦，該方法的缺點是銦錫分離率低，氧化錫渣等中含銦約1%～2%，銦直收率﹤97%。

還有學者采用萃取法對廢液晶屏中銦錫等進行分離和回收，僅停留在試驗室階段，未能實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化?；鸱愔饕奶崛》绞綖闅錃膺€原廢靶粉得到銦錫合金，合金再經(jīng)真空蒸餾分離得到粗銦和粗錫，該方法同樣存在銦錫分離不徹底的問題，粗錫中含銦高達1%以上，銦直收率﹤98%。

2017年6月，工信部發(fā)布《重點新材料首批次應用示范指導目錄（2017年版）》，提出了平板顯示用ITO靶材、平板顯示用高純鉬靶材等重點新材料的應用領域。伴隨ITO技術和產(chǎn)能突破瓶頸，國產(chǎn)ITO靶材憑借成本和性價比優(yōu)勢將逐步占領市場。

ITO靶材生產(chǎn)所消耗的銦錠占全球銦消費總量的70%左右，其它包括電子半導體領域、合金和焊料領域、研究行業(yè)。全球預估銦儲量僅5萬噸，其中可開采部分僅有50%。