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上海艾嶸電路有限公司

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上海真如鎮(zhèn)高精密HDI線路板加工,完善的來料檢驗(yàn)體系

2023-07-08 03:00:02  329次瀏覽 次瀏覽
價(jià) 格:面議

高精密HDI線路板埋、盲孔技術(shù)在現(xiàn)今的PCB板產(chǎn)業(yè)發(fā)展中顯的越來越重要。高精度是指線路板制作的“線細(xì)、孔小、線寬窄、板薄”的結(jié)果必然帶來精度高的要求,以線寬為例:O.20mm線寬,按規(guī)定生產(chǎn)出O.16-0.24mm為合格,其誤差為(O.20土 0.04)mm;而O.10mm的線寬,同理其誤差為(0.10±O.02)mm,顯然后者精度提高1倍,依此類推是不難理解的,因此高精度要求不再單獨(dú)論述。但卻是生產(chǎn)技術(shù)中一個(gè)突出的難題。

今天為大家?guī)淼氖峭暾娴木€路板生產(chǎn)制作流程,希望能夠讓大家對(duì)線路板的生產(chǎn)有更深的了解!

開料

目的:根據(jù)工程資料MI的要求,在符合要求的大張板材上,裁切成小塊生產(chǎn)板件.符合客戶要求的小塊板料.

流程:大板料→按MI要求切板→鋦板→啤圓角\磨邊→出板

鉆孔

目的:根據(jù)工程資料,在所開符合要求尺寸的板料上,相應(yīng)的位置鉆出所求的孔徑.

流程:疊板銷釘→上板→鉆孔→下板→檢查\修理

沉銅

目的:沉銅是利用化學(xué)方法在絕緣孔壁上沉積上一層薄銅.

流程:粗磨→掛板→沉銅自動(dòng)線→下板→浸%稀H2SO4→加厚銅

圖形轉(zhuǎn)移

目的:圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)菲林上的圖像轉(zhuǎn)移到板上

流程:(藍(lán)油流程):磨板→印面→烘干→印第二面→烘干→爆光→沖影→檢查;(干膜流程):麻板→壓膜→靜置→對(duì)位→曝光→靜置→沖影→檢查

圖形電鍍

目的:圖形電鍍是在線路圖形裸露的銅皮上或孔壁上電鍍一層達(dá)到要求厚度的銅層與要求厚度的金鎳或錫層.

流程:上板→除油→水洗二次→微蝕→水洗→酸洗→鍍銅→水洗→浸酸→鍍錫→水洗→下板

退膜

目的:用NaOH溶液退去抗電鍍覆蓋膜層使非線路銅層裸露出來.

流程:水膜:插架→浸堿→沖洗→擦洗→過機(jī);干膜:放板→過機(jī)

蝕刻

目的:蝕刻是利用化學(xué)反應(yīng)法將非線路部位的銅層腐蝕去.

綠油

目的:綠油是將綠油菲林的圖形轉(zhuǎn)移到板上,起到保護(hù)線路和阻止焊接零件時(shí)線路上錫的作用

流程:磨板→印感光綠油→鋦板→曝光→沖影;磨板→印面→烘板→印第二面→烘板

字符

目的:字符是提供的一種便于辯認(rèn)的標(biāo)記

流程:綠油終鋦后→冷卻靜置→調(diào)網(wǎng)→印字符→后鋦

鍍金手指

目的:在插頭手指上鍍上一層要求厚度的鎳\金層,使之更具有硬度的耐磨性

流程:上板→除油→水洗兩次→微蝕→水洗兩次→酸洗→鍍銅→水洗→鍍鎳→水洗→鍍金

鍍錫板 (并列的一種工藝)

目的:噴錫是在未覆蓋阻焊油的裸露銅面上噴上一層鉛錫,以保護(hù)銅面不蝕氧化,以保證具有良好的焊接性能.

流程:微蝕→風(fēng)干→預(yù)熱→松香涂覆→焊錫涂覆→熱風(fēng)平整→風(fēng)冷→洗滌風(fēng)干

成型

目的:通過模具沖壓或數(shù)控鑼機(jī)鑼出客戶所需要的形狀成型的方法有機(jī)鑼,啤板,手鑼,手切

說明:數(shù)據(jù)鑼機(jī)板與啤板的度較高,手鑼其次,手切板具只能做一些簡(jiǎn)單的外形.

測(cè)試

目的:通過電子測(cè)試,檢測(cè)目視不易發(fā)現(xiàn)到的開路,短路等影響功能性之缺陷.

流程:上?!虐濉鷾y(cè)試→合格→FQC目檢→不合格→修理→返測(cè)試→OK→REJ→報(bào)廢

終檢

目的:通過目檢板件外觀缺陷,并對(duì)輕微缺陷進(jìn)行修理,避免有問題及缺陷板件流出.

具體工作流程:來料→查看資料→目檢→合格→FQA抽查→合格→包裝→不合格→處理→檢查OK

多階HDI軟硬結(jié)合板結(jié)構(gòu)

技術(shù)領(lǐng)域:

本實(shí)用新型涉及PCB技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種多階HDI軟硬結(jié)合板結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù):

PCB (Printed Circuit Board,印刷電路板)是重要的電子部件,是電子元器件的支撐體,是電子元器件電氣連接的提供者。目前,隨著PCB行業(yè)的快速發(fā)展,其應(yīng)用也越來越廣泛。電子設(shè)備小到電子手表、計(jì)算器、通用電腦,大到計(jì)算機(jī)、通訊電子設(shè)備、軍用武器系統(tǒng),只要有集成電路等電子元器件,他們之間的電氣互連都要用到PCB。傳統(tǒng)的硬板直接開窗的制作方式在制作時(shí),因激光鉆前和機(jī)械鉆孔后均要進(jìn)行膨松或除膠處理,尤其是多次壓板的HDI(High Density Interconnect,高密度互聯(lián))板,需要多次經(jīng)過膨松或除膠,對(duì)軟板的基材及覆蓋膜表面的腐蝕性很大,會(huì)造成覆蓋膜表面變色無光澤,嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成線路裸露的問題;并且HDI板在進(jìn)行加層法進(jìn)行壓板時(shí)需要進(jìn)行多次壓合且各層板均需要進(jìn)行開窗,各層板開窗需要等次外層線路完成后測(cè)量漲縮進(jìn)行補(bǔ)償,制作流程較長(zhǎng),制作成本較高;另外,各層板在進(jìn)行對(duì)位時(shí)可能因?yàn)閷?duì)位偏差導(dǎo)致溢膠過大,蓋住小窗口的軟板區(qū)。

本實(shí)用新型有益效果在于:本實(shí)用新型包括有軟板,軟板上依次設(shè)有覆銅芯板、多層激光增層,覆銅芯板與軟板之間通過不流動(dòng)粘結(jié)片粘接,覆銅芯板包括有芯板層和分別設(shè)置在芯板層上下兩端面的覆銅層,不流動(dòng)粘結(jié)片在與軟板開窗區(qū)對(duì)應(yīng)的位置處開設(shè)有軟板窗口,覆銅芯板上與不流動(dòng)粘結(jié)片連接的覆銅層上開設(shè)有與軟板開窗區(qū)對(duì)應(yīng)的環(huán)形隔離槽,覆銅層上位于軟板開窗區(qū)對(duì)應(yīng)的位置由環(huán)形隔離槽環(huán)繞分隔形成補(bǔ)銅片,本實(shí)用新型只需要在貼進(jìn)軟板的不流動(dòng)粘結(jié)片開窗,其它層無須進(jìn)行開窗,待次壓板后,后續(xù)流程可完全按照硬板的制作流程進(jìn)行制作,無須次外層漲縮測(cè)量以及各層開窗,待外層圖形完成后通過機(jī)械和激光盲銑的方式完成軟硬結(jié)合板軟板區(qū)的開窗制作,同時(shí)在蝕刻過程中可以將板邊的銅蝕刻掉,避免軟硬結(jié)合邊殘銅現(xiàn)象,制作流程和制作周期短,軟硬交接區(qū)溢膠均勻,制作成本低,提高產(chǎn)品的制作效率和制作精度;并且補(bǔ)銅片可阻擋激光覆蓋膜,同時(shí)在完成開窗后也回連同廢料一同脫落,簡(jiǎn)化制作流程。

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