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邢臺脫硫脫硝設備生產廠家

2022-04-29 02:06:33  555次瀏覽 次瀏覽
價 格:99999

邢臺脫硫脫硝設備生產廠家

邢臺一家搪瓷窯爐用戶,與我們公司聯(lián)系,需要安裝一套脫硝系統(tǒng),公司技術部門通過搪瓷窯的參數,制定了SCR脫硝方案。SCR脫硝系統(tǒng)是一種爐外脫硝工藝。脫硝效率較高。

SCR脫硝系統(tǒng)中,各種廢氣中含有的NOxan水、尿素或其他含有氨基的物質進行反應,生成氮氣和水。

基于經濟性、處理難度和系統(tǒng)的角度考慮,選擇適合的含氨基的還原劑SCR系統(tǒng)主要包含了反應器、還原劑儲罐、還原劑噴射系統(tǒng)和催化劑,在還原劑噴射和煙氣進行混合之后,廢氣會進入催化劑層,脫硝反應將會在這里進行。

氮氧化合物在催化劑表面轉化成氮氣和水。當還原劑是氨的時候,化學反應方程式如下。

4NO+4NH3+O2 -> 4N2+6H2O6NO2 +8NH3 -> 7N2+12H2O

2、性能(常用范圍)

使用范圍:(燃氣、燃油、燃煤)鍋爐,汽輪機,垃圾焚燒發(fā)電廠和柴油發(fā)電機

效率:大于90%的脫硝率

運行溫度:200-420

氮氧化物含量:10-2,000ppm

壓降:小于1.2kPa/反應器

反應器:催化劑床層可安裝在余熱鍋爐內

運行條件:冷啟動30分鐘以內可以達到穩(wěn)定狀態(tài)

1)當要求的脫硝效率大于95%的時候,排放的還原劑的量會增加;

2)運行溫度的確定應該考慮煙氣中SOx的濃度,以防形成ABS,導致催化劑堵塞。

3、備注

SCR脫硝系統(tǒng)的性能主要依賴于催化劑的性能(活性,shouming)和還原劑噴射的控制技術。

V/TiO2催化劑是通過三氧化釩離子吸附在二氧化鈦晶體上并且煅燒制成的,的運用在SCR系統(tǒng)中。

脫硝反應速度很快,所以,反應速度主要受還原劑擴散率的控制:層流邊界層和催化劑微孔處的擴散率。

催化劑技術的發(fā)展與日俱新。但是,現(xiàn)在模塊化的、用強化陶瓷纖維制成的催化劑獲得了很高的評價。這種催化劑有以下的結構。

催化劑的細粉(直徑為1- 30um)均勻的分散在陶瓷纖維的母體上。

由于反應物的擴散率是加速增長的,這種催化劑對脫硝反應有高活性和對二氧化硫有低活性:二氧化硫氧化成三氧化硫,會導致下游設備的腐蝕和飛灰沉積。

因為有很高的擴散率,反應器對運行條件的變化min感。所以有可能控制還原劑的瞬時噴射量,并將其控制在適合的范圍內。

當反應溫度大于350℃,V/TiO2基本上都中了三氧化硫的毒,并且顯示出了長期運行的穩(wěn)定活性。

粉塵中的堿性金屬被認為是催化劑的毒物。但在正常運行條件下,他們和催化劑活性部分接觸得機會很小,它們對催化劑活性的危害不是很大。但是應該考慮Se,ZnAs的混合物和他們的蒸氣是催化劑的毒物。

模塊化的催化劑安裝在反應器的催化劑層中。它空隙部分占了有80%,所以催化劑層的壓降是很低的。在煙氣中的飛灰不是很黏的時候,飛灰也不會堵塞催化劑層。

SCR的流體動力學(CFD)模擬

計算流體動力學模擬(CFD)在模型定義時不必考慮放大或縮小的影響,它本身能考慮到電廠的實際規(guī)模。它能夠準確的模擬熱量狀況,好像在實際的設備里一樣。除了傳統(tǒng)研究中的計算流場,溫度的分布和氨濃度之外,CFD模擬還能研究更復雜的問題,比如氨液滴的蒸發(fā)以及灰塵粒子的擴散等。

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