1、概述

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水，純水主要用作清洗用水 以及用來(lái)配制各種溶液、漿料。

純水水質(zhì)已經(jīng)成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率以及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)的要求也越來(lái)越高。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ·cm、15 MΩ·cm、10 MΩ·cm、2 MΩ·cm、0.5 MΩ·cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

2、電子工業(yè)用超純水的制備工藝流程

電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用制備的工藝流程有下列幾種：

（1）原水－多介質(zhì)過(guò)濾器－活性炭過(guò)濾器－軟水器－精密過(guò)濾器－陽(yáng)床－陰床－混合床－純水箱－純水泵－后置精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)

（2）原水－多介質(zhì)過(guò)濾器－活性炭過(guò)濾器――軟水器－原水箱－一級(jí)反滲透－中間水箱－二級(jí)反滲透－純化水箱－純水泵－紫外線器－后置精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)

（3）原水－多介質(zhì)過(guò)濾器－活性炭過(guò)濾器－軟水器－原水箱－反滲透設(shè)備－中間水箱－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線器－后置精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)

（4）原水－多介質(zhì)過(guò)濾器－活性炭過(guò)濾器－軟水器－原水箱－反滲透設(shè)備－中間水箱－EDI裝置－純水箱－純水泵－精制混床－精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)