單晶硅在太陽(yáng)能電池中得到廣泛的應(yīng)用。高純的單晶硅是重要的半導(dǎo)體材料，在光伏技術(shù)和微小型半導(dǎo)體逆變器技術(shù)飛速發(fā)展的今天，利用硅單晶所生產(chǎn)的太陽(yáng)能電池可以直接把太陽(yáng)能轉(zhuǎn)化為光能，實(shí)現(xiàn)了邁向綠色能源革命的開始。單晶硅太陽(yáng)能電池的特點(diǎn)：1.光電轉(zhuǎn)換效率高，可靠性高； 2.先進(jìn)的擴(kuò)散技術(shù)，保證片內(nèi)各處轉(zhuǎn)換效率的均勻性； 3.運(yùn)用先進(jìn)的PECVD成膜技術(shù)，在電池表面鍍上深藍(lán)色的氮化硅減反射膜，顏色均勻美觀； 4.應(yīng)用高品質(zhì)的金屬漿料制作背場(chǎng)和電極，確保良好的導(dǎo)電性。

硅片如何利用的呢？具體流程介紹如下：切片：將單晶硅棒切成具有幾何尺寸的薄硅片。此過程中產(chǎn)生的硅粉采用水淋，產(chǎn)生廢水和硅渣都可以利用。退火：雙工位熱氧化爐經(jīng)氮?dú)獯祾吆?，用紅外加熱至300~500℃，硅片表面和氧氣發(fā)生反應(yīng)的材料，使硅片技術(shù)表面形成二氧化硅再次生產(chǎn)。倒角：將退火的硅片進(jìn)行修整成圓弧形，防止硅片邊緣破裂及晶格缺陷產(chǎn)生，增加磊晶層及光阻層的平坦度。此過程中產(chǎn)生的硅片廢水和硅渣。硅片再利用一直秉承“變廢為寶、凈化環(huán)境”的理念，融合專業(yè)的服務(wù)體系和先進(jìn)的再加工技術(shù)，為國(guó)家的環(huán)保事業(yè)，做出著應(yīng)有的貢獻(xiàn)。

硅片，簡(jiǎn)單來(lái)講就是用硅制成的片，所以叫硅片，它主要是用在晶體硅光伏電池中，它質(zhì)量方面的要求是很高的，表面不能有損傷等缺陷，比如彎曲、凹凸或者厚度不均勻等。并且硅在切割過程中，要注意切割方式和方法，盡量減少硅原料的消耗量。

硅片回收，就是對(duì)硅片進(jìn)行回收，以便進(jìn)行硅的二次利用，從而避免其污染環(huán)境，并能夠提高硅的利用率。

硅片回收及加工過程，包括了很多步驟，但總的要求是：

(1)能夠修正一些物理性能，包括尺寸、形狀、平整度等方面；

(2)避免出現(xiàn)表面損傷，消除表面的臟污或者顆粒。

它的工序，主要有：

切片：就是將硅棒切成薄硅片，具有一定的幾何尺寸。

退火：讓硅片表面發(fā)生氧化反應(yīng)，通過氧化爐，使其表面形成二氧化硅保護(hù)層。

倒角：硅片進(jìn)行修整，修整成圓弧形，避免產(chǎn)生缺陷，增加其平坦度。

對(duì)硅片行業(yè)稍微有些了解的人都應(yīng)該知道，廢硅片回收之后是必須要清洗的，而且我們還要對(duì)清洗過程給予必要的重視，不能馬馬虎虎，因?yàn)楣杵厥涨逑吹男蕦⒅苯佑绊懙狡骷某善仿?、性能和可靠性。下面我們就?lái)了解一下費(fèi)硅片回收清洗的重要性。

現(xiàn)在人們已研制出了很多種可用于廢硅片回收清洗的工藝方法和技術(shù)，常見的有：濕法化學(xué)清 洗、超聲清洗法、兆聲清洗法、鼓泡清洗法、擦洗法、高壓噴射法、離心噴射法、流體力學(xué)法、流體動(dòng)力學(xué)法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝噴霧技 術(shù)、氣相清洗、非浸潤(rùn)液體噴射法、廢硅片回收在線真空清洗技術(shù)、RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗、等離子體清洗、原位水沖洗法等。這些方法和技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于廢硅片回收 加工和器件制造中的廢硅片回收清洗。

表面沾污指硅表面上沉積有粒子、金屬、有機(jī)物、濕氣分子和自然氧化物等的一種或幾種。超純表面定義為沒有沾污的表面, 或者是超出檢測(cè)量極限的表面。