一、設(shè)備簡(jiǎn)介

電去離子Electrodeionization，簡(jiǎn)稱EDI，又稱連續(xù)電解除鹽技術(shù)，它地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陰、陽(yáng)離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對(duì)水中離子的交換作用，在電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生，因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

二、設(shè)備原理

電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng)，利用交換膜對(duì)離子的選擇透過作用來對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種的水處理技術(shù)。電滲析器的一對(duì)電極之間，通常由陰膜，陽(yáng)膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過陽(yáng)膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過陽(yáng)膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽(yáng)膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化、提純、濃縮或精制的目的。

三、工藝流程

1、如圖片“工藝流程圖---EDI“

四、技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)水量

根據(jù)需求訂制（0.5-300噸/時(shí)）

原水源

自來水或地下水（電導(dǎo)率小于400us/cm）

產(chǎn)水水質(zhì)

電導(dǎo)率小于0.056us/cm(電阻率≥18MΩ/cm)

設(shè)備功率

5KW-800KW

運(yùn)行狀態(tài)

自動(dòng)運(yùn)行、定時(shí)反洗

反洗頻率

隨進(jìn)水水質(zhì)而變化（1～3天）

化學(xué)清洗

隨膜材質(zhì)及膜污染情況而定

產(chǎn)品特點(diǎn)