電子級四氟化碳是目前半導(dǎo)體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。在低溫制冷、電子器件表面清洗和氣相絕緣等方面被廣泛應(yīng)用。我院具備年產(chǎn)200噸CF4的生產(chǎn)能力，生產(chǎn)工藝及設(shè)備均處于國內(nèi)ling 先地位，且以生產(chǎn)5N規(guī)格的產(chǎn)品為主。穩(wěn)定銷往韓國、臺灣等地區(qū)。

產(chǎn)品特性：

四氟化碳是目前半導(dǎo)體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。

黎明化工研究設(shè)計院有限責(zé)任公司前身為黎明化工研究院，始建于1965年，主要從事化工新材料和化學(xué)推進(jìn)劑及其原材料的研究開發(fā)。為航空航天事業(yè)、國防建設(shè)和經(jīng)濟(jì)發(fā)展做出了貢獻(xiàn)。

黎明化工研究設(shè)計院有限責(zé)任公司是家重點(diǎn)高新技術(shù)企業(yè)和省創(chuàng)新型企業(yè)，現(xiàn)有職工830余人，其中業(yè)技術(shù)人員約占54% 。公司總占地約45萬平方米，建筑面積約17萬平方米.

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