科研實驗專用硫化銅靶材CuS磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

硫化銅（CuS）是一種無機化合物，呈黑褐色，極難溶，是難溶的物質(zhì)之一，因為它的難溶性使得一些看似不可以發(fā)生的反應(yīng)能夠發(fā)生。 對熱不穩(wěn)定，加熱至220℃時分解為硫化亞銅和硫單質(zhì)：有還原性，易被濃,稀硝酸，濃硫酸所氧化而溶解，在空氣中也可以被氧氣緩慢氧化，而在加熱時可迅速被氧氣氧化，用作分析試劑。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名 硫化銅 化學(xué)式 CuS 相對分子質(zhì)量 95.61

沸點 220℃ 熔點 103℃ 密度 4.6g/ml

物理性質(zhì)

外觀與性狀：黑褐色無定形粉末或粒狀物。

硫化銅化學(xué)分子結(jié)構(gòu)式

熔點: 220℃（分解）

沸點：無意義。

溶解性：極難溶于水（25°C時Ksp為1.27×10-36） [2] ，也難溶于硫化鈉溶液和濃鹽酸

支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價?。?/p>

服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊?，質(zhì)量保證，售后無憂！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備

質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。

注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。