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北京京邁研材料科技有限公司

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氧化鋱靶材Tb2O3磁控濺射靶材

2021-11-10 02:36:01  708次瀏覽 次瀏覽
價 格:面議

科研實驗專用氧化鋱靶材Tb2O3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

氧化鋱(Tb2O3)外觀為黑褐色粉末,不溶于水,溶于酸。用于制作金屬鋱、磁光玻璃、熒光粉、磁光貯存、化工添加劑 等。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名稱:氧化鋱

中文別名:七氧化四鋱

英文名稱:Terbium oxide

CAS號:12037-01-3

分子式:Tb4O7

分子量:747.69700

質(zhì)量:747.66600

純度 99.99%

PSA:95.97000

[ 密度 ]: 7.3 g/mL at 25 °C(lit.)

[ 熔點 ]: 2340°C

[ PSA ]: 95.97000

[ 外觀性狀 ]: 無氣味的暗棕色-黑色粉末

[ 儲存條件 ]:

常溫密閉,陰涼通風(fēng)干燥

[ 穩(wěn)定性 ]:

常溫常壓下穩(wěn)定避免濕 酸 氧化物.不溶于水,溶于熱濃酸。

支持靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會盡快為您報價??!

服務(wù)項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊睿|(zhì)量保證,售后無憂!

產(chǎn)品附件:發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備

質(zhì)量控制:嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度;可提供質(zhì)檢報告。

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差,連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!

我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。

注意:高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導(dǎo)致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!

建議:陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

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