微粒研磨由以下幾道工序組成：

①粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的紋路粗，磨出的表面較粗糙，主要清除產(chǎn)品在前道工序中留有的鋸片痕跡并將產(chǎn)品的平整度，造型面磨削到位；

②半細磨：將粗磨痕跡清除，形成新的較細的紋路，產(chǎn)品加工面平整、順滑；

③細磨：細磨后的產(chǎn)品花紋、顆粒、顏色已清楚地顯示出來，表面細膩、光滑，開始有微弱的光澤度；

④精磨：加工后的產(chǎn)品，無肉眼察覺的痕跡。表面越來越光滑，光澤度約40~50度左右； ⑤拋光：表面明亮如鏡，具有一定的鏡面光澤度（95度以上）。

裝飾石材的美觀，除產(chǎn)品顏色外，主要反映在產(chǎn)品的光澤度上，故產(chǎn)品的拋光是很重要、關鍵的環(huán)節(jié)，如何將產(chǎn)品拋光達到效果，首先要了解拋光的材料、方法、原理。

拋光材料主要是氧化鉻（Cr2O3）、白剛玉（M1.0）、氧化鋁（Al2O3）、草酸（COOH2）。

拋光磨石在被加工產(chǎn)品上拋光，待拋光產(chǎn)品燙手后，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續(xù)加水或大量加水，否則，水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果，也不能全部使用干拋光，過高的溫度會燒壞板面，而且會使板面出現(xiàn)裂紋。

幾種固化劑復合使用，可以收到相得益彰的效果，例如低分子聚酰胺固化劑配合少量的間苯二胺固化劑，既可室溫固化，又能使固化物韌性增加的同時適當?shù)靥岣吣蜔嵝?。偏苯三酸酐（TMA）與甲基四氫苯酐復合使用，共熔混合物黏度低（25℃，200～250mPa·s），易與環(huán)氧樹脂相互混合，改善了工藝性。

固化劑是必不可少的添加物，無論是作粘接劑、涂料、澆注料都需添加固化劑，否則環(huán)氧樹脂不能固化。 固化劑的品種對固化物的力學性能、耐熱性、耐水性、耐腐蝕性等都有很大影響。

石材拋光效果取決于兩個方面：一是所采用的拋光技術即“后天”人為的外因；二是石材本身存在“先天”的內(nèi)因。

如果不考慮石材本身所具有的內(nèi)因，單就拋光工藝而言，影響石材拋光的幾個主要因素是拋光劑的類型，拋光液（膏），拋光磨具，拋光盤（具、磨塊）和拋光工藝參數(shù)。

（1）拋光劑的類型

拋光劑雖然是一種特殊的磨光材料，但它與磨削材料的區(qū)別主要是表現(xiàn)在加工機理上。原則上說，有一些低硬度的微粉材料也可做拋光劑使用。但通常高硬度的拋光劑比低硬度的好，且適用范圍也廣。金剛石拋光粉，對絕大多數(shù)石材的拋光，都能取得較為滿意的拋光效果。

（2）拋光液（膏）

水是常用的拋光液。它既可起磨削冷卻的作用，又可作為拋光過程中物理作用和化學作用的介質(zhì)。

若石材的拋光是以機械磨削作用為主，如金剛石微粉，拋光液一般用油類有機液體效果較好，如縫紉機油。其冷卻、潤滑和分散作用。

金剛石研磨膏，既有水質(zhì)的，又有油質(zhì)的，并且還可以加上著色劑。其配方為：磨料+分散劑+載體+水+著色劑。

（3）、拋光盤（具、磨塊）

規(guī)格平整的石材光面板，是石材平面磨削的一種表達加工的表現(xiàn)形式，多采用含有金屬材料制成的硬盤作拋光盤。軟盤拋光的拋光面，在石材受壓時易屈服成一凹面，適用于弧面型拋光。中硬盤的耐磨性，吸附性較好，并具有一定的彈性，對平面型石材拋光的效果也比較好。