模塊化：為潔凈實(shí)驗(yàn)室-生物實(shí)驗(yàn)室用戶設(shè)計(jì)方案時(shí)，采用工業(yè)化、標(biāo)準(zhǔn)化的運(yùn)作理念，將多年的凈化工程項(xiàng)目進(jìn)行歸納整理，就是將復(fù)雜的潔凈實(shí)驗(yàn)室-生物實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目進(jìn)行模塊化，便于恰當(dāng)?shù)母鶕?jù)用戶的不同情況和特點(diǎn)以及需求，進(jìn)行了更優(yōu)化的組合。在提供的方案中采用因地制宜的做法，把建筑裝修、配電、空調(diào)、消防全都做成標(biāo)準(zhǔn)化的方案，制定具有針對(duì)性的方案設(shè)計(jì)。

單向流潔凈室一般有兩種類型，即水平流和垂直流。在水平流系統(tǒng)中，氣流是從一面墻流向另一面墻。在垂直流系統(tǒng)中，氣流是從吊頂流向地面。對(duì)要求潔凈室的懸浮粒子濃度或微生物濃度更低的場(chǎng)合，就使用單向氣流。

例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。

相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。