單向流潔凈室：單向流潔凈室氣流的特征是流線平行，以單一方向流動，并且在斷截面上風速一致，有垂直單向潔凈室，準垂直單向流，水平單向流潔凈室等。

工作區(qū)的氣流應均勻，流速必須滿足工藝和衛(wèi)生的要求；潔凈氣流應盡可能把工作部位圍罩起來，使污染物在擴散之前便流向回風口。

工作設(shè)備布置時要留有一定的間隔，為送、回風口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件：氣流組織設(shè)計時要考慮高大設(shè)備對氣流組織的影響。

潔凈工作臺不宜布置在層流潔凈室內(nèi)。當布置在亂流潔凈室時，宜將其置于工作區(qū)氣流的上風側(cè)，以提高室內(nèi)的空氣潔凈度。

潔凈室內(nèi)有通風柜時，宜置于工作區(qū)氣流的下風側(cè)，以減少對室內(nèi)的污染。

一般情況下，凈化空調(diào)系統(tǒng)的能耗比一般空調(diào)系統(tǒng)的能耗大的多。其原因是兩者之間的負荷特點不同。就潔凈室，尤其是半導體工業(yè)潔凈室而言，其負荷特點是：由于排風量大造成新風量大，故新風處理所需冷量消耗大；送風量大，輸送動力消耗大，風機管道溫升高；生產(chǎn)設(shè)備的發(fā)熱量大，消耗冷量大。

玷污物的污染包含對產(chǎn)品的損害和對人的危害。

污染包含直接污染和交叉污染(醫(yī)療范疇謂之感染)。

人是污染源的發(fā)源地：靜坐時，人體每分鐘散發(fā)10萬個粒子(?！?.5μm);

每天脫落6～13克表皮細胞，一年脫落人體細胞約3.5公斤。

半導體潔凈室內(nèi)微污染來源，經(jīng)測試，作業(yè)人員占80% 。