凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機(jī)械工業(yè)（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導(dǎo)體工業(yè)（如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)）等對環(huán)境的要求，促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。國內(nèi)曾統(tǒng)計(jì)過，在無潔凈級別的要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64為儲存器僅2%。目前在精密機(jī)械、半導(dǎo)體、宇航、原子能等工業(yè)中應(yīng)用潔凈室已相當(dāng)普遍。

潔凈室的流型基本上是上述三種類型，但是實(shí)際應(yīng)用時(shí)可演變出很多形式。潔凈室可以是單向流和非單向流組合在一起的混合流型，以在局部區(qū)域（單向流部分）實(shí)現(xiàn)高級別的潔凈室。例如，在潔凈室中設(shè)水平單向流的“隧道”（一側(cè)敞開），潔凈室的其余部分是渦流的單向流流型，從而實(shí)現(xiàn)“隧道”部分達(dá)到5級以上潔凈度，工作臺就設(shè)在“隧道內(nèi)”。

潔凈室要達(dá)到潔凈等級，必須有綜合措施，其中包括工藝布置、建筑平面、建筑構(gòu)造、建筑裝修、人員和物料凈化、空氣潔凈措施、維護(hù)管理等。其中空氣潔凈措施是實(shí)現(xiàn)潔凈等級的根本保證。

潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務(wù)的，潔凈室設(shè)計(jì)必須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求，這是理所當(dāng)然的。因此，在潔凈室設(shè)計(jì)時(shí)生產(chǎn)工藝對環(huán)境參數(shù)的要求應(yīng)該實(shí)事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應(yīng)該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運(yùn)行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求，控制凈化面積，縮小高凈化級別潔凈區(qū)的范圍，嚴(yán)格控制100級和更高級別單向流潔凈區(qū)的面積。 [3]