潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

室內(nèi)空氣參數(shù)要求 ：

(1)溫濕度要求：溫度一般為24+2℃，相對濕度為55+5%。

(2)新風量大。由于這類車間內(nèi)，人員比較多，可以根據(jù)以下數(shù)值應取下列的值：非單向流潔凈室總送風量的10-30%;補償室內(nèi)排風和保持室內(nèi)正壓值所需的新鮮空氣量;保證室內(nèi)每人每小時的新鮮 空氣量≥40m3/h。

(3)送風量大。為了滿足潔凈室內(nèi)的潔凈度及熱濕平衡，需要較大的送風量，就300平方米的車間，吊頂高度為2.5米的，如果是萬級，送風量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送風量(換氣次數(shù)，是≥25次/h);如果是十萬級，送風量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送風量(換氣次數(shù)，是≥15次/h)。

萬級凈化，環(huán)境凈化的一種，主要靠潔凈的氣流不斷稀釋室內(nèi)的空氣，將室內(nèi)的污染逐漸排出，來實現(xiàn)潔凈效果。

萬級凈化主要靠潔凈的氣流不斷稀釋室內(nèi)的空氣，將室內(nèi)的污染逐漸排出，來實現(xiàn)潔凈效果。室內(nèi)的氣流是以不均勻的速度呈不平行流動，拌有回流或渦流，不同等級的無塵室，主要是依靠單位時間內(nèi)所送風量的不同來實現(xiàn)。

潔凈室是指將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微粒子、有害空氣、等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給予特別設計之房間。亦即是不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能俱有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。

1.無菌室應設有無菌操作間和緩沖間，無菌操作間潔凈度應達到10000級，室內(nèi)溫度保持在18-24℃，濕度保持在45-65%。超凈臺潔凈度應達到100級。

2.無菌室應保持清潔，嚴禁堆放雜物，以防污染。

3.嚴防一切器材和培養(yǎng)基污染，已污染者應停止使用。

4.無菌室應備有工作濃度的液，如5%的甲酚溶液，75%的酒精，0.1%的新潔爾滅溶液，等等。

參照《藥品衛(wèi)生檢驗方法》 《中國藥品檢驗標準操作規(guī)范》中 (無菌檢查法)章節(jié) 中華人民共和國醫(yī)藥行業(yè)標準 YY/T0188.6-1995《藥品檢驗操作規(guī)程》