拋光是漆面美容項目工序中一個重要環(huán)節(jié)，拋光是個技術(shù)活，處理不當會拋露漆面，對車漆造成無法復原的損傷，技術(shù)不到位漆面的劃痕處理不掉，拋不出鏡面效果，這都大大影響鍍膜的終效果，另外負責任的店和不負責任的店面在流程設計和施工細節(jié)把握上差別巨大，有的店做3M水晶鍍膜流程簡單，拋光走過場，做出的效果除了比打蠟保持時間長之外沒有什么大的差別。

依據(jù)機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：

（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。

（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。

拋光時，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達Ra0.63～0.01微米;當采用非油脂性的消光拋光劑時，可對光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時，常采用滾筒拋光的方法。

精拋時在木桶中裝入鋼球和毛皮碎塊，連續(xù)轉(zhuǎn)動數(shù)小時可得到耀眼光亮的表面。精密線紋尺的拋光是將加工表面浸在拋光液中進行的，拋光液由粒度為W5～W0.5的氧化鉻微粉和乳化液混合而成。 拋光輪采用材質(zhì)勻細經(jīng)脫脂處理的木材或特制的細毛氈制成，其運動軌跡為均勻稠密的網(wǎng)狀，拋光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米，在放大40倍的顯微鏡下觀察不到任何表面缺陷。此外還有電解拋光等方法。