化學拋光是一種將金相樣品浸入調配的化學拋光液中，借化學藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法。化學拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡便，不需任何儀器設備，只需要選擇適當?shù)幕瘜W拋光液和掌握的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無變形層的表面。

氧化鋁和碳化硅拋光液 是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。 主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

真正的汽車封釉美容工序是相當復雜的，認真做下來沒有3-4個小時是做不出來的。 簡單的說，先用火山灰制成的去污黏土在漆面仔細擦拭，粘除沙塵、油污。接著用靜電輪配合增光劑，除去汽車漆面附著的雜物和氧化的層面，使細微的傷痕拉平填滿。同時使藥劑滲進車漆內發(fā)生還原變化，達到增艷如新的效果。 然后再用專用振拋機將類似釉的保護劑通過振動擠壓進入漆的毛孔內，配合紅外線燈的照射，使之形成如同網狀的牢固保護層，其內部富含UV紫外線劑，可以大大降低紫外線對車漆的損傷，并能防酸堿等化學成分的腐蝕。 后一道工序是用無塵紙和波浪棉輕拋漆面，名叫鏡面處理。經過這番美容，真正可以使您的舊車煥然一新、光亮照人。

半導體行業(yè) CMP技術還廣泛的應用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業(yè)的急速發(fā)展，對拋光技術提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術，不能做到全局平面化，而化學機械拋光技術解決了這個問題，它是可以在整個硅圓晶片上平坦化的工藝技術。