含鈀催化劑的種類很多，大多應用于石油化工中的催化加氫和催化氧化等反應過程中，如制備乙醛、吡啶衍生物、乙酸乙烯酯及多種化工產(chǎn)品的反應過程。加氫反應常用鈀催化劑，汽車排氣凈化常以氧化鋁載鉑．鈀或鉑一銠一鈀為催化劑，硝酸生產(chǎn)氨氧化反應常用含鈀的鉑網(wǎng)催化劑，松香加氫及歧化用鈀/炭催化劑。 鎵是化學史上個先從理論預言，后在自然界中被發(fā)現(xiàn)驗證的化學元素。1871年，門捷列夫發(fā)現(xiàn)元素周期表中鋁元素下面有個間隙尚未被占據(jù)，他預測這種未知元素的原子量大約是68，密度為5.9 g/cm3，性質(zhì)與鋁相似，他的這一預測被法國化學家布瓦博得朗(Paul Emile Lecoq de Boisbaudran)證實了。

貴金屬回收提純面向全國專業(yè)回收廢或過期鈀碳、金鹽、金水、金絲、銀漿、銀粉、銀鹽、硝酸銀、銀焊條、導電銀漆、導電布、銀水、擦銀布、氯化銀、碘化銀、硫酸銀、鈀鹽、鈀水、鈀粉、銠水、銠粉、電熱偶、鈀碳催化劑、鉑碳催化劑等一切含有(金、銀、鉑、鈀、銠)貴金屬及廢料提純 通過技術認證和其他措施，提高礦產(chǎn)開采的效率；為不同的金屬設置優(yōu)先級，如基本金屬、特殊金屬和關鍵技術金屬等；產(chǎn)品設計要綜合考慮產(chǎn)品生命周期理論、冶金知識和回收工藝，通過系統(tǒng)的優(yōu)化和設計進一步提高回收率和降低環(huán)境影響；改善工藝流程效率和含金屬廢水的利用，提高初級生產(chǎn)的能源效率等

靶材的作用和用途

1、微電子領i域

在所有應用產(chǎn)業(yè)中，半導體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。

2、顯示器用

平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結，一種是采用銦錫合金靶材。

3、存儲用

在儲存技術方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發(fā)展，用它制造的磁光盤具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特點。

金屬靶材

鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cu、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶、W等。

陶瓷靶材

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

合金靶材

鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。