鉑族金屬包括 Pt、Pd、Rh、Ir、Os、Ru，它們與 Au、Ag 統(tǒng)稱(chēng)為貴金屬。貴金屬在地殼中的含量極低(克拉克值為 0.001~0.01×10 -6 )且分散， 通常以微量組分存于某些基性及超基性的火成巖中。貴金屬由于其理化特性，除作飾物和外，在工業(yè)、電子信息、航天、軍工等領(lǐng)域也得到廣泛應(yīng)用，例如，生產(chǎn)硝酸用鉑銠催化網(wǎng)，石油工業(yè)用鉑(或鉑錸等)重整催化劑。主要成分是 Pt、Pd、Rh的汽車(chē)尾氣凈化催化劑，新能源燃料電池用 Pt 催化劑等等。

稀有金屬回收：通常是指那些在自然界中含量少，分布稀散或難從原料中提取的金屬。如鎢、鉬、鈦、鈾、鈮、釩、釷、鈹、鉭、鋯和鍺等幾十種。根據(jù)某些共同點(diǎn)。它們又分為五類(lèi)：稀有輕金屬、稀有高熔點(diǎn)金屬、稀有分散金屬、稀土金屬、和稀有放射性金屬。 我國(guó)有色金屬的概況： 我國(guó)是世界上有色金屬礦產(chǎn)資源十分豐富的國(guó)家之一，有“有色金屬王國(guó)”之稱(chēng)。不僅儲(chǔ)量豐，而且品種全。有色金屬為我國(guó)發(fā)展現(xiàn)代工業(yè)和科學(xué)技術(shù)提供了必要的物質(zhì)基礎(chǔ)。如煉鋼時(shí)，若加入少量熔點(diǎn)高的鎢、熔點(diǎn)低的鋰、比重輕的鈦，有磁性的鈷等有色金屬就能分別制成各種各樣的特殊鋼。用于宇航、國(guó)防及科學(xué)技術(shù)等領(lǐng)域。

靶材的作用和用途

1、微電子領(lǐng)i域

在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來(lái)．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。

2、顯示器用

平面顯示器（FPD)這些年來(lái)大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。

3、存儲(chǔ)用

在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤(pán)的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤(pán)需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光盤(pán)具有存儲(chǔ)容量大，壽命長(zhǎng)，可反復(fù)無(wú)接觸擦寫(xiě)的特點(diǎn)。

金屬靶材

鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cu、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶、W等。

陶瓷靶材

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

合金靶材

鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。