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東莞東興電泳烤漆廠

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東莞石碣電泳烤漆定制,選擇我們選擇放心

2024-09-08 08:00:01  1438次瀏覽 次瀏覽
價 格:面議

電泳件的檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)

1、外觀

零部件經(jīng)過電泳后,其表面應(yīng)沒有任何顆粒、粗糙、疙瘩、陷穴、縮孔、針孔、斑痕、水滴跡、掛流、露底以及剝落等現(xiàn)象,并且電泳層的厚度要均勻一致。

2、電泳層厚度

電泳層厚度應(yīng)為10—18um。

3、電泳層附著力

劃格法:其間距為1毫米,然后劃分成100個方格。然后使用膠布貼在上面,瞬間用力拉開后,電泳層不得脫落20/100,否則視為不合格。圓滾線劃痕法:就是使用附著力測定儀進(jìn)行測定,要求是不能低于GB/T1720中的5級,否則視為不合格。

4、電泳層硬度

一般是采用犁耕法進(jìn)行測定,就是使用2H鉛筆,將其筆芯前端切齊,然后將其與待測物成45度推出,如果表面沒有劃痕的話就是合格,否則就是不合格。

5、電泳層耐蝕性

在24或48小時內(nèi)進(jìn)行中性試驗(yàn),然后觀察試樣邊緣及其外表面是否有白色、黑色或棕色的腐蝕點(diǎn),如有則表示不合格。

電沉積

陰極電泳漆離子化并穩(wěn)定的分散于水中的PH值5~6.7之間

陰極電泳漆的電沉積反應(yīng)如下:

2H2O+2e→2 OH-+H2↑

Polym-N+HR’R”↓+ OH-→Polym - HR’R”H2O

電滲

電滲是分散介質(zhì)向帶電粒子泳動相反方向運(yùn)動的現(xiàn)象。剛沉積的漆膜是含水量高的半滲透膜,在電場力作用下,

涂膜中的水合離子向?qū)﹄姌O移動,從而使涂膜中的水分時序滲析到槽燁中,濕膜的含水量減少到5%~15%,

涂膜呈現(xiàn)一定憎水性。此時的是是濕膜結(jié)構(gòu)致密,附著強(qiáng),不粘手,抗水沖洗,經(jīng)水洗后可直接烘烤成膜。

那么電泳漆的使用注意事項(xiàng)有哪些呢?

1、電泳漆可以提高車身整體防腐蝕性,因此使用的時候,需要減少電泳漆的用量,不要用了過多,開始時電泳漆的表面處理工藝對涂裝內(nèi)在防腐質(zhì)量有著非常大的影響。

2、電泳漆的涂裝表面處理工藝是一個極為復(fù)雜的電化學(xué)反應(yīng)過程,至少需要通過電泳動、電沉積、電解、電滲四個過程才能完整的做好產(chǎn)品的表面處理工作。

3、不同底材上的電泳漆性能有差異,因此需要選擇您需要的電泳漆。

4、點(diǎn)樣時,點(diǎn)樣量不要溢出點(diǎn)樣孔,注意槍頭捅破點(diǎn)樣孔的凝膠。

5、控制電壓及電泳時間,嚴(yán)控條帶跑出。

6、電泳時需要marker做對照,用于驗(yàn)證目擬標(biāo)片段的大小。

7、電泳漆的純水電導(dǎo)率不大于10μs/cm。

8、使用電泳漆前必須嚴(yán)格遵照施工工藝施工,因?yàn)槿绻貌缓靡矔霈F(xiàn)問題的。

9、緩沖系統(tǒng):在沒有離子存在時,電導(dǎo)率小,DNA不遷移,或遷移極慢,在高離子強(qiáng)度的緩沖液中,電導(dǎo)很高并產(chǎn)熱,可能導(dǎo)致DNA變性,因此應(yīng)注意緩沖液的使用是否正確。

10、長時間高壓電泳時,常更新緩沖液或在兩槽間進(jìn)。

涂料的固體分和顏基比市售的電泳涂料的固體分一般為50%左右,施工時,需用蒸餾水將涂料固體分控制在10%~15%。固體含量太低,漆膜的遮蓋力不好,顏料易沉淀,涂料的穩(wěn)定性差。固體分過高,粘度提高,會造成漆膜粗糙疏松,附著力差。一般顏基比為1比2左右,高光澤電泳涂料的顏基比可控制在1比4。由于實(shí)際操作中,涂料的顏料量會逐漸下降,必須隨時添加顏料分高的涂料來調(diào)節(jié)。

涂料的PH值電泳涂料的PH值直接影響槽液的穩(wěn)定性。PH值過高,新沉積的涂膜會再溶解,漆膜變薄,電泳后沖洗會脫膜。PH值過低,工件表面光澤不一致,漆液的穩(wěn)定性不好,已溶解的樹脂會析出,漆膜表面粗糙,附著力降低。一般要求施工過程中,PH值控制在7.5~8.5之間。在施工工程中,由于連續(xù)進(jìn)行電泳,陽離子的銨化合物在涂料中積蓄,導(dǎo)致PH值的上升??刹捎醚a(bǔ)加低PH值的原液,更換陰極罩蒸餾水,用離子交換樹脂除去銨離子,采用陽極罩等方法降低PH值。若PH值過低時,可加入乙醇銨來調(diào)節(jié)。

涂料電阻被涂物件從前一道工序帶入電泳槽的雜質(zhì)離子等引起涂料電阻值的下降,從而導(dǎo)致漆膜出現(xiàn)粗糙不均和針孔等弊病。在涂裝施工中,需對涂料進(jìn)行凈化處理。為了得到高質(zhì)量涂膜,可采用陰極罩設(shè)備,以除去銨及鈣、鎂等雜質(zhì)正離子。

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