以活性炭與氟為原料，在裝有活性炭的反應(yīng)爐中緩慢通入高濃氟氣，通過(guò)控制電加熱，供氟速率和冷卻反應(yīng)爐來(lái)控制反應(yīng)溫度。反應(yīng)產(chǎn)物經(jīng)過(guò)除塵、堿洗、脫水后，可獲得含CF4、C2F6、C3F8的粗品，然后把粗品混合物進(jìn)行間歇低溫精餾，提取C2F6，再用分子篩進(jìn)一步進(jìn)行低溫吸附脫水，可獲得純度大于99.7%的C2F6。六氟乙烷可用于一種具多功能的蝕刻技術(shù)，常見(jiàn)于半導(dǎo)體之生產(chǎn)。它可用于金屬硅化物及金屬氧化物并相對(duì)其金屬基質(zhì)的選擇性蝕刻。叧外，它亦用于蝕刻硅上的二氧化硅。六氟乙烷可連同三氟甲烷一起用于制冷劑R508A（六氟乙烷占61%）及R508B（六氟乙烷占54%）。