科研實(shí)驗(yàn)專用氮化鈦靶材TiN磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

氮化鈦（TiN）熔點(diǎn)：2950℃，密度：5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。其熔

點(diǎn)比大多數(shù)過渡金屬氮化物的熔點(diǎn)高，而密度卻比大多數(shù)金屬氮化物低，因此是一種很有特色的

耐熱材料。在高溫下不與鐵、鉻、鈣和鎂等金屬反應(yīng)，TiN坩堝在CO與N2氣氛下也不與酸性渣和

堿性渣起作用，因此TiN坩堝是研究剛液與一些元素相互作用的優(yōu)良容器。TiN有著誘人的金黃色

、熔點(diǎn)高、硬度大、化學(xué)穩(wěn)定性好、與金屬的潤濕小的結(jié)構(gòu)材料、并具有較高的導(dǎo)電性和超導(dǎo)性

，可應(yīng)用于高溫結(jié)構(gòu)材料和超導(dǎo)材料。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氮化鈦 化學(xué)式 TiN

熔點(diǎn) 2950℃ 密度 5.43g/cm3

純度 99.9%

支持合金靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價?。?

服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無憂！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備

質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫