uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

工作原理

uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

兆星uv光催化氧化設(shè)備特點

一、除惡臭:能去除揮發(fā)性有機物(VOC)、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率更高可達99%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93).

二、無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應(yīng)。

三、適應(yīng)性強:可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

四、運行成本低:本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，(每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能)，設(shè)備風阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。

五、無需預(yù)處理:惡臭氣體無需進行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間，濕度在30%-98%、PH值在2-13之間均可正常工作。

六、設(shè)備占地面積小，自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。

應(yīng)用范圍

uv光催化氧化設(shè)備適用范圍:煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。