UV光解催化氧化技術(shù)注意事項(xiàng)：

惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

裂解反應(yīng)的時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)（見反應(yīng)④）的時(shí)間需2-3s。

提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸煌耆梢恍┲虚g副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對(duì)于高濃度大分子的有機(jī)惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。

UV光解凈化的長期穩(wěn)定、，需要反應(yīng)溫度＜70℃，粉塵量＜100mg/m3，相對(duì)濕度＜99%。

條件滿足的情況下，UV光解凈化的zuigao凈化效率可達(dá)到99.9%以上。

UV紫外線的波長越短，養(yǎng)殖場(chǎng)除臭氣，即UV光子能量越高，物質(zhì)的光解反應(yīng)就越容易，UV光解除臭設(shè)備所采用的紫外光催化技術(shù)所提供的UV光子能量必須大于有機(jī)化合物的部分化學(xué)鍵鍵能。養(yǎng)殖場(chǎng)臭氣才能將之分解。這就是為什么市面上部分UV光解除臭設(shè)備不能產(chǎn)生作用或作用不明顯的其中一個(gè)原因，目前我們所提供的UV光子的能量都可以大于常見的臭氣分子的化學(xué)鍵能，所以對(duì)大部分有機(jī)/揮發(fā)氣體都可以起到除臭的效果，此外，我們還加有二氧化鈦?zhàn)鳛榇呋瘎?，進(jìn)行二次催化凈化。

工業(yè)廢氣光解凈化設(shè)備包括：uv光解凈化設(shè)備、光催化裝置、uv光解技術(shù)、光解設(shè)備、光催化空氣凈化、uv催化光解、光氧催化廢氣凈化器、光催化降解裝置、光觸媒、光微波、光量子、光氧催化除臭設(shè)備。

UV光解除臭設(shè)備特點(diǎn)：

應(yīng)用范圍廣：只要設(shè)備所提供的UV光子的能量大于廢氣中惡臭物質(zhì)化學(xué)鍵鍵能，就能有效分解，所以主要設(shè)備功率選型合適，功率足夠大，目前大部分行業(yè)工廠所產(chǎn)生的惡臭物質(zhì)都可以分解掉；

裂解反應(yīng)的時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)時(shí)間需2-3S，反應(yīng)迅速，長春養(yǎng)雞場(chǎng)除臭氣，所需要空間小

UV光解凈化的長期穩(wěn)定、，需要反應(yīng)溫度＜50℃，粉塵量＜100mg/m3，相對(duì)濕度＜99％。

條件滿足的情況下，UV光解除臭設(shè)備的高凈化效率可達(dá)到99.9％以上，所以UV光解除臭設(shè)備可以說是目前/價(jià)比高的除臭設(shè)備，可廣泛用于水處理廠、垃圾廠、制yao廠、煉油廠、化工廠、屠宰廠、養(yǎng)殖廠、飼料加工廠、造紙廠、印刷廠、油墨廠、印染廠、塑料再生廠、實(shí)驗(yàn)室等惡臭氣體的除臭處理。

近兩年來，我國為了應(yīng)對(duì)日趨嚴(yán)重的大氣污染，所以對(duì)于工業(yè)廠房的廢氣除臭加大管理力度，一些新型的廢氣除臭技術(shù)逐漸廣泛，而UV光解除臭技術(shù)和DDBD低溫等離子除臭技術(shù)是具代表/有機(jī)廢氣處理技術(shù)的。