1.工藝特點：

2采用易控制的可溶性混合催化劑，操作簡單；

2有較高的陰極電流效率，能在高電流密度下操作；

2工件可得到好的活化，有較廣的光亮范圍；

2對雜質容忍度好；

2優(yōu)越的覆蓋和分散能力。

2.鍍液組成及操作條件：

鍍液組成及工藝條件

標準開缸

適用范圍

鉻酐

240克/升

150－350克/升

純硫酸（d=1.84）

1.2克/升（0.65毫升）

0.75－1.75克/升（0.41－0.95毫升/升）

鉻酐/硫酸（CrO3/H2SO4）

200:1

125-250:1

842開缸劑

10毫升/升

8－15毫升/升

鍍液比重（Bé）

21°波美

19－23°波美

工作溫度

40℃

35－52℃

陰極電流密度

15安培/平方分米

10－20安培/平方分米

3.設備要求：

2鍍槽：硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可；

2整流器：要求有足夠的容量與鍍槽配套，波紋系數(shù)5%,電壓不小于15V；

2陽極：使用的陽極為鉛錫合金（錫：4－7%）或鉛銻合金，工作時陰陽 極面積比例為陰極面積：陽極面積＝1：2－3；

2加熱器：選用鈦、鉛或聚四氟乙烯材料；

2冷卻管：選用鈦或鉛材料；

4.鍍液配制方法：

2在徹底清洗過的干凈鍍槽內加入三分之二的去離子水，并加熱到50℃；

2在攪拌加入所需的鉻酸并溶解，加入所需添加劑RC-842；

2加水至規(guī)定體積，并調至工作溫度，攪拌讓溶液均勻；

2分析硫酸根的含量，用化學純的硫酸補加不足的硫酸含量至規(guī)定值；

2放陽極入鍍槽，并且加入陰極；在6伏電壓下電解幾個小時后，就可以開始電鍍。詳細請咨詢，可研發(fā)達到要求