拋光粉的基本要求

（1）微粉粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)；顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度，過篩的篩網(wǎng)目數(shù) 能掌握粉體相對的粒度的值，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

（2）有較高的純度，不含機械雜質(zhì)。

（3）有良好的分散性和吸附性，以保證加工過程的均勻和，可適量添加LBD-1分散劑提高懸浮率；好的 拋光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響，納米粒徑的拋光粉的懸 浮性相對的要好一些，所以精拋一般選擇納米拋光粉。

（4）粉末顆粒有一定的晶格形態(tài)，破碎時形成銳利的尖角，以提高拋光效率；粉體的晶型是團聚在一起的單 晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動性。

（5）有合適的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因為拋光粉需要與水混合，硬度相對大的粉體具 有較快的切削效果，同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應(yīng)用領(lǐng)域會有很大出入，包括自身加工工藝。

為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3－8的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。

對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此選用不含氟的拋光粉為好。

氧化鈰拋光液

氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點。

適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

結(jié)晶粉的使用

1、石材結(jié)晶粉使用效果的要求: 地面平整,翻新完成后使用或晶面日常保養(yǎng)。

2、取本大理石油亮型結(jié)晶粉濕磨工藝：加水調(diào)成漿狀(比例為1:6)。用石材晶面機配合百潔墊(紅墊、白墊、納米墊、獸毛墊都可以，根據(jù)石材材質(zhì)和經(jīng)濟性決定)研磨3-5分鐘后,保持地面濕潤，用清水輕拋洗凈吸水機吸干。后再用干凈纖維墊輕拋2-3分鐘效果更佳!

3、取本大理石超亮晶面粉干磨工藝：加水調(diào)成漿狀(比例為1:1)。用石材晶面機配合纖維墊研磨,磨干地面。(晶面機阻力增大時即晶面漿結(jié)晶層形成時可在地面灑幾滴水至磨干)

4、觀察地面結(jié)晶層亮度、油潤度，可按上述方法施工二遍，可達到滿意結(jié)晶面，做翻新工程時可以直接交工。

5、地面干燥后，可用干凈塵推推塵。