巴西棕櫚蠟乳液是采用新型的乳化技術(shù)以巴西棕櫚蠟為主要原料生產(chǎn)的技術(shù)含量高的產(chǎn)品。巴西棕櫚蠟乳液廣泛用于制造皮革涂飾劑、水性油墨、水性油漆、水性涂料、上光劑（自亮型皮鞋油、皮夾克油、汽車(chē)蠟、地板蠟、家俱上光蠟）、水果保鮮、及塑料和橡膠潤(rùn)滑劑等領(lǐng)域。

為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3－8的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。

對(duì)ZF或F系列的玻璃來(lái)說(shuō)，因?yàn)楸旧碛捕容^小，而且材料本身的氟含量較高，因此選用不含氟的拋光粉為好。

石材結(jié)晶粉的使用方法如下：

首先，確保石材表面平整，這樣才能讓石材結(jié)晶粉發(fā)揮效果。

其次，濕磨工藝。作業(yè)人員將石材結(jié)晶粉加水后，按照1:6的比例調(diào)成泥漿狀，再使用石材晶面機(jī)將其研磨3-5分鐘，使用紅墊、白墊、納米墊等百潔墊配合進(jìn)行，用清水輕拋洗凈、吸水機(jī)吸干，再使用纖維墊輕拋2-3分鐘以獲得更佳效果。

這兩個(gè)概念主要出半導(dǎo)體加工過(guò)程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。