拋光粉的基本要求

（1）微粉粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)；顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度，過(guò)篩的篩網(wǎng)目數(shù) 能掌握粉體相對(duì)的粒度的值，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

（2）有較高的純度，不含機(jī)械雜質(zhì)。

（3）有良好的分散性和吸附性，以保證加工過(guò)程的均勻和，可適量添加LBD-1分散劑提高懸浮率；好的 拋光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對(duì)懸浮性能具有一定的影響，納米粒徑的拋光粉的懸 浮性相對(duì)的要好一些，所以精拋一般選擇納米拋光粉。

（4）粉末顆粒有一定的晶格形態(tài)，破碎時(shí)形成銳利的尖角，以提高拋光效率；粉體的晶型是團(tuán)聚在一起的單 晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動(dòng)性。粉體團(tuán)聚在一起的單晶顆粒在拋光過(guò)程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動(dòng)性。

（5）有合適的硬度和密度，和水有很好的浸潤(rùn)性和懸浮性，因?yàn)閽伖夥坌枰c水混合，硬度相對(duì)大的粉體具 有較快的切削效果，同時(shí)添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應(yīng)用領(lǐng)域會(huì)有很大出入，包括自身加工工藝。

性能特點(diǎn)： 1、光澤度高，可達(dá)100度以上，超出新出廠石材的標(biāo)準(zhǔn)。 2、硬度高，不易劃傷，一般硬物（或自然行走）不會(huì)對(duì)石材造成磨損。 3、均勻、平整、光滑、天然、清澈，有鏡面感覺(jué)，顯現(xiàn)石材天然色澤。 4、表面干爽，不吸附塵埃，塵埃沙粒僅停留在表面，易徹底清理。 5、還具有防滑、防污效果。 適用范圍：特特別適用于一些比較難處理的大理石，如：潔士白、大花綠等石材。大理石面板、墻壁的清洗、增亮、防護(hù)處理。晶面處理后石材表面的日常維護(hù)處理。

影響拋光粉性能的指標(biāo)

（1）粉體的粒度大?。簺Q定了拋光精度和速度，常用多少目和粉體的平均粒度大小來(lái)。過(guò)篩的篩網(wǎng)目數(shù)能掌握粉體相對(duì)的粒度的值，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

（2）粉體莫氏硬度：硬度相對(duì)大的粉體具有較快的切削效果，同時(shí)添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應(yīng)用領(lǐng)域會(huì)有很大出入，包括自身加工工藝。

（3）粉體懸浮性：好的粉要求拋光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對(duì)懸浮性能具有一定的影響，片形及粒度細(xì)些的拋光粉的懸浮性相對(duì)的要好一些，但不是決對(duì)的。拋光粉懸浮性能的提高也可通過(guò)加懸浮液（劑）來(lái)改善。

（4）粉體的晶型：粉體的晶型是團(tuán)聚在一起的單晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動(dòng)性。粉體團(tuán)聚在一起的單晶顆粒在拋光過(guò)程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，不規(guī)則的六邊形晶型顆粒具有良好的切削性、耐磨性和流動(dòng)性。

（5）外觀顏色：原料中Pr的含量及灼燒溫度等因素有關(guān)，鐠含量越高，其粉體顯棕紅色。低鈰拋光粉中含有大量的鐠（鈰鐠料），使其顯棕紅色。高鈰拋光粉，灼燒溫度越高，其顯偏白粉色，溫度低（900度左右），其顯淡黃色。

這兩個(gè)概念主要出半導(dǎo)體加工過(guò)程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深?；瘜W(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。