光氧催化凈化原理：

利用高能高臭氧UV紫外線光束(發(fā)出的波長主要為170nm及184。9nm，能量為742kj/mol和647kj/mol)照射惡臭氣體，列解有機(惡臭)廢氣如：氨、、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯，VOC類，苯、甲苯、二甲苯等分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H20等。高能高臭氧紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。

UV+O2→O-+O(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它性異味有立竿見影的效果。燈管兩邊的催化層(催化劑：納米二氧化鈦)在受到紫外線光照射時生成化學活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料，在徹底分解有機污染物和殺的同時，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的、降解污染物效果。惡臭氣體利用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

低溫離子原理：低溫等離子有機廢氣凈化模塊采用了獨特的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計，采用標準模塊設(shè)計等優(yōu)點，是一種干法處理有機、煙霧廢氣的凈化設(shè)備。它改變了使用活性碳材料的工藝技術(shù)，無需再生處理原料，無需專人負責，不產(chǎn)生二次污染，更換及維護保養(yǎng)方便(可在設(shè)備正常運行情況下更換維護操作)。

UV光解除臭設(shè)備是合理的利用了光觸媒凈化處理技術(shù)，該設(shè)備可以有效的去除有機廢氣當中的惡臭分子，使其裂解分化，達到凈化處理的效果。另外該設(shè)備還舍棄了傳統(tǒng)使用活性炭作為吸附材料的歷史，采用高科技含量的活性氧作為吸附材料，不僅可以更潔凈的吸附有機廢氣中的正負電離子，還可以讓電離子與活性氧相結(jié)合產(chǎn)生臭氧，眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它性異味有立竿見影的效果。這樣就可以達到對于有機氣體凈化，并且除臭的目的。