產(chǎn)品名稱:四氟化碳

其他名稱:四氟甲烷、R14、tetrafluoromethane、carbon tetrafluoride

分子式:CF4

UN No.UN1956

CAS No.75-73-0

產(chǎn)品純度:99.99~99.999%

包裝說明:47L DOT鋼瓶，鋼瓶尺寸23 × 130cm，316L SS材質(zhì)閥門，閥門型號(hào)CGA660；40L高壓無縫鋼瓶，凈重30kg/瓶，瓶頭閥是銅質(zhì)閥門是QF-2，出口螺紋是G5/8產(chǎn)品說明四氟化碳在常溫常壓下是無色無臭有輕微醚味，較易揮發(fā)的不燃燒的壓縮氣體，是化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定的有機(jī)物。充裝于四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在硅和二氧化硅體系中，采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時(shí)，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性。在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。產(chǎn)品應(yīng)用用于電子器件表面清晰、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑CF4是良好的電氣絕緣和滅弧材料，可作為變壓器、電力開關(guān)的絕緣氣體用于微電子工業(yè)的等離子蝕刻用于太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等用于塑料行業(yè)，如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯由于四氟化碳的溶氧性很好，所以被科學(xué)家用于超深度潛水實(shí)驗(yàn)代替普通壓縮空氣高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻注意事項(xiàng)四氟化碳是不燃性壓縮氣體。儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)倉(cāng)間內(nèi)。倉(cāng)內(nèi)溫度不宜超過60℃。遠(yuǎn)離火種、熱源。防止陽(yáng)光直射。應(yīng)與易燃或可燃物分開存放。驗(yàn)收時(shí)要注意品名，注意驗(yàn)瓶日期，先進(jìn)倉(cāng)的先發(fā)用。搬運(yùn)四氟化碳時(shí)輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。泄漏時(shí)，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進(jìn)行隔離，嚴(yán)格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴(kuò)散。如有可能，即時(shí)使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗(yàn)后再用。四氟化碳的物理化學(xué)性質(zhì)

分子量：88.005

熔點(diǎn)(101.325kPa)：-186.8℃

沸點(diǎn)(101.325kPa)：-128.0℃

液體密度(-127.94℃，101.325kPa)：1603kg/m3

氣體密度(0℃，101.325kPa)：3.946 kg/m3

相對(duì)密度(氣體，0℃，101.325kPa)：3.05

氣液容積比(15℃，100kPa)：436 L/L

比容(21.1℃，101.325kPa)：0.2747m3/kg

臨界溫度：-45.6℃

臨界壓力：3739kPa

臨界密度：629kg/m3

壓縮系數(shù)：

溫度℃壓縮系數(shù)100kPa1000kPa5000kPa10000kPa1 50.99810.97630.78320.6058500.99880.98660.87170.7637

熔化熱(-186.8℃)：7.609 kJ/kg

氣化熱(-127.94℃，101.325kPa)：135.65 kJ/kg

比熱容(氣體，25℃，101.325kPa)：Cp=696 J/(kg·K)

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