工廠工業(yè)廢氣處理設(shè)備uv光解設(shè)備光氧催化設(shè)備除臭的原理及價(jià)格，uv光解設(shè)備光氧催化設(shè)備除臭的/能優(yōu)勢：
1.除惡臭：能去除揮發(fā)/有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達(dá)80-99%，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)。
2.設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1.2平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
3.運(yùn)行成本低：UV光解廢氣凈化設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
4.無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭/工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
5.優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕/能高，設(shè)備/能穩(wěn)定，采用不銹鋼材質(zhì)，設(shè)備使用壽命在十五年以上。
工廠工業(yè)廢氣處理設(shè)備uv光解設(shè)備光氧催化設(shè)備除臭的原理及價(jià)格，UV系列惡臭氣體（工業(yè)廢氣）UV光解凈化設(shè)備適用范圍：煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機(jī)和無機(jī)物惡臭氣體的脫臭凈化處理。
高能光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體，如：氨、、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯，硫化物H2S、VOC類，苯、、二的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活/氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。
UV＋O2→O-+O＊(活/氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對惡臭氣體及其它/異味有立竿見影的效果。
3、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能C波光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅的目的。
設(shè)計(jì)原則
1、 依據(jù)的有關(guān)環(huán)保法律、法規(guī)及產(chǎn)業(yè)政策要求對工業(yè)污染進(jìn)行治理，充分發(fā)揮建設(shè)項(xiàng)目的社會效益、環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益。
2、 積極穩(wěn)妥地采用高新技術(shù)、高品質(zhì)設(shè)備，結(jié)合企業(yè)的現(xiàn)狀和管理水平采用先進(jìn)、可靠的改造技術(shù)和污染治理工藝處理技術(shù)，力求運(yùn)行穩(wěn)定、費(fèi)用低、管理方便、維護(hù)容易，從而達(dá)到治理污染、保護(hù)環(huán)境的目的。
3、 妥善解決項(xiàng)目建設(shè)及運(yùn)行過程中產(chǎn)生的污染物，避免二次污染。
4、 嚴(yán)格執(zhí)行現(xiàn)行的防火、、衛(wèi)生、環(huán)境保護(hù)等和地方頒布的規(guī)范、法規(guī)與標(biāo)準(zhǔn)。
5、 選擇新型、、低噪設(shè)備、注意節(jié)能降耗。
光催化除臭凈化器使用220V電壓，新的凈化器在出廠前已經(jīng)本公司調(diào)試合格，接通電源（*用電控設(shè)備控制啟停），電源指示燈亮，顯示正常通電，即可啟動凈化器分組開關(guān)，設(shè)備上分為兩個(gè)或兩個(gè)以上光催化電控模塊，全部啟動則啟動整機(jī)全部負(fù)荷，同時(shí)也可以根據(jù)廢氣濃度啟動單組或多組模塊。
光解氧化設(shè)備能夠?qū)?、安、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二硫化碳和苯，硫化?/span>H2S、VOC類，苯、、二的分子鍵等呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。