產(chǎn)品概述：

諾泰PT-V1200-LG 1200℃高校實驗室坩堝爐集控制系統(tǒng)與爐膛一體，其中爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，加熱元件采用優(yōu)質硅鉬棒。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品。主要用于金屬、非金屬及化合物材料進行燒結、融化、分析?？刂泼姘迮溆兄悄軠囟日{節(jié)儀，控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕，以便隨時觀察。

適用范圍：

該款坩堝熔化爐的各項指標均達到了國際先進水平，主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。