UV光解廢氣處理設(shè)備的工作原理及特點(diǎn)

惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外，這就是UV光解廢氣處理設(shè)備的工作原理。

利用高能UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸(DNA)，再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅的目的。

UV光解廢氣處理設(shè)備的特點(diǎn)：

UV光解技術(shù)的特點(diǎn)： 成本低廉，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，無需專人看護(hù)，但在廢氣處理的速度上較慢，相比低溫等離子技術(shù)效率偏低。

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被迅速擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。 低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。(注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，屬于常溫運(yùn)行。) 等離子體反應(yīng)區(qū)富含的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形式產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍，這就是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)治理工業(yè)廢氣99%以失敗而告終的原因。

與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比，等離子工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點(diǎn)： 低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體治理，具有處理效果好，成本雖然偏高，但運(yùn)行費(fèi)用極低，無二次污染，運(yùn)行穩(wěn)定，操作管理簡便，即開即用等，瞬間就可以處理廢氣，效率高的同時(shí)，低溫等離子技術(shù)對環(huán)境的系數(shù)要求很高。

UV光解廢氣處理設(shè)備較其他廢氣處理設(shè)備的優(yōu)勢：

1、UV光解即紫外光照射技術(shù)，通過紫外燈管產(chǎn)生的185nm光譜與253.7nm光譜對廢氣成分進(jìn)行照射，分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧，利用臭氧對廢氣進(jìn)行氧化分解的技術(shù)。該技術(shù)主要用于、等工況。

2、主體設(shè)備配置不同： UV光解設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外燈管、活性炭纖維過濾層組成。

3、去除能力不同：

UV光解產(chǎn)生臭氧氧化能力為1.24eV，只能氧化小部分廢氣組分。

4、使用壽命不同：

UV光解紫外燈管及電源(進(jìn)口產(chǎn)品)8000小時(shí)。活性炭纖維層根據(jù)廢氣濃度的不同更換比較頻繁。

5、裝備化應(yīng)用防控措施不同：

UV光解主機(jī)設(shè)備基本無防控措施。

6、設(shè)備長周期運(yùn)行的保障措施不同：

UV光解主機(jī)內(nèi)部光量子管長周期運(yùn)行后管壁掛附的結(jié)焦物無在線清洗措施，影響設(shè)備的運(yùn)行及去除效率。

7、一次性投資及能耗不同：

1)UV光解一次性投資略低。

2)UV光解能耗低。

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