物理清洗是利用力學(xué)、聲學(xué)、光學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)的原理，依靠外來能量的作用，如機(jī)械摩擦、超聲波、負(fù)壓、高壓、沖擊、紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢而不改變污類組分的清洗方法。即不改變原來的化學(xué)分子組分的方法。

①機(jī)械清洗法：清掃器和刮刀清理法、鉆管清洗法、噴丸清洗法。

②水力清洗法：低壓水力清洗（低壓清洗的壓力為196-686千帕，大約2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa）。

③高壓水力清洗：高壓清洗的壓力為4900千帕，大約50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機(jī)。

電子清洗法防垢、除垢原理是：利用高頻電場改變水的分子結(jié)構(gòu)，使其防垢和除垢。當(dāng)水通過高頻電場時(shí)，其分子物理結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化，原來的締合鏈狀大分子，斷裂成單個(gè)水分子，水中鹽類的正負(fù)離子被單個(gè)水分子包圍，運(yùn)動(dòng)速度降低，有效碰撞次數(shù)減少，靜電引力下降，無法在受熱壁式管面上結(jié)構(gòu)，從而達(dá)到防垢目的。同時(shí)由于水分子偶極矩增大，使其與鹽的正負(fù)離子（水垢分子吸合能力增大，使受熱面或管壁上的水垢變得松軟，容易脫落，產(chǎn)生了除垢的效果。

化工設(shè)備（英文名稱Chemical Equipment）是化工機(jī)械（chemicanl machinery）的一部分，化工機(jī)械包括兩部分，其一是化工機(jī)器，主要是指諸如流體輸送的風(fēng)機(jī)、壓縮機(jī)、各種泵等設(shè)備，其主要部件是運(yùn)動(dòng)的機(jī)械，一般稱為化工機(jī)器。其二是化工設(shè)備主要是指部件是靜止的機(jī)械，諸如塔器等分離設(shè)備，容器、反應(yīng)器設(shè)備等，有時(shí)也稱為非標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備?；C(jī)械與其他機(jī)械的劃分不是很嚴(yán)格的，例如一些用于化工過程的機(jī)泵，也是其他工業(yè)部門采用的通用設(shè)備。同樣在化工過程中化工機(jī)器和化工設(shè)備間也沒有嚴(yán)格的區(qū)分。例如一些反應(yīng)器也常常裝有運(yùn)動(dòng)的機(jī)器。

鍋爐經(jīng)過長時(shí)間運(yùn)行，不可避免的出現(xiàn)了水垢、銹蝕問題，鍋爐形成水垢的主要原因是給水中帶有硬度成份，經(jīng)過高溫、高壓的不斷蒸發(fā)濃縮以后，在爐內(nèi)發(fā)生一系列的物理、化學(xué)反應(yīng)，終在受熱面上形成堅(jiān)硬、致密的水垢。水垢是鍋爐的“百害之首”，是引起鍋爐事故的主要原因，其危害性主要表現(xiàn)在： 浪費(fèi)大量燃料:因?yàn)樗傅膶?dǎo)熱系數(shù)只有鋼材的幾十分之一，所以當(dāng)受熱面結(jié)垢后會(huì)使傳熱受阻，為了保持鍋爐一定的出力，就必須提高火側(cè)的溫度，從而使向外輻射及排煙造成熱損失。